Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9394521 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K
ID: 9394521
Taille de la plaquette: 12"
Furnace, 12" Process: MTO.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K est un four de diffusion et un système d'accessoires conçu pour la fabrication précise des plaquettes et des substrats. Il convient à un large éventail de tâches, y compris le recuit, l'oxydation, le dopage au bore et l'alliage des métaux. Un système de contrôle automatique avancé avec une variété de fonctions assure une précision et une répétabilité de haut niveau. TEL ALPHA 303IK est équipé d'une alimentation électrique haute performance et d'un module de régulation de température avancé pour assurer un contrôle précis de la température. La plage de température du four va de la température ambiante à 1100 ° C avec la stabilité de température la plus élevée à ± 1 ° C Le contrôle de la température est assuré par un PID précis - contrôle automatique de la température. L'unité dispose d'un module optionnel de transfert de plaquettes, qui peut être utilisé pour un échange rapide de substrat entre les étapes de procédé et de refroidissement. L'échange rapide de plaquettes minimise les dommages pendant le processus de transfert et améliore l'efficacité globale de la production. L'unité est également équipée de fonctions de sécurité, telles qu'une alarme sur-température, une fonction de purge automatique des gaz et un système de surveillance des processus. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K offre des fonctions avancées de contrôle des processus, comme un circuit de contrôle multi-positions pour un contrôle précis de la température. L'interface d'entrée/sortie programmable permet aux utilisateurs de contrôler étroitement les paramètres du processus tels que la recette, la température, la pression et le temps. De plus, il a une fonction de contrôle automatique de la pression, qui maximise le taux d'utilisation du gaz source. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K utilise un procédé physique de dépôt en phase vapeur pour assurer un dépôt de film reproductible et conforme. La chambre est conçue pour répartir uniformément le gaz source et génère une grande homogénéité sur les substrats. On assure ainsi un enrobage uniforme et à la profondeur désirée des substrats. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303IK est un équipement fiable et efficace adapté à une large gamme d'industries, telles que la fabrication de semi-conducteurs, les modules photovoltaïques et la fabrication de MEMS. Il est adapté aux besoins de fabrication de faible à moyen niveau et offre une précision, une stabilité et une répétabilité de classe mondiale.
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