Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9394535 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K
ID: 9394535
Taille de la plaquette: 12"
Furnace, 12" Gases: SiH4, Si2H6, H2, ClF3, LTO520 (Liquid).
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K est un équipement de traitement simple, à grande échelle et d'usage général utilisé dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Ce système comporte deux composants, un four de diffusion et un équipement auxiliaire. Le four de diffusion TEL ALPHA 303IK offre de nombreux avantages, tels qu'une uniformité améliorée et des temps de fonctionnement rapides. Le four lui-même a une grande uniformité thermique d'environ ± 1 ° C sur une large surface de la plaquette, et peut atteindre une température de 1150 ° C en environ 20 minutes. Le four dispose également de deux zones indépendantes conçues pour deux types différents de capacité de traitement. La zone flottante peut traiter jusqu'à 1 200 ° C, et la zone de graphite peut atteindre des températures allant jusqu'à 1 700 ° C En outre, le four est conçu avec un tube en quartz en forme de U, assurant un chauffage et un refroidissement uniformes pour assurer un dépôt de film de haute qualité. L'unité dispose également d'un équipement auxiliaire qui améliore les capacités de traitement du four. Cela comprend un chargeur/déchargeur de plaquettes piloté par ordinateur, quatre ensembles de jauges de capacité de vide sans contact, trois types d'options de mandrin à chaud, une station de préchauffage indépendante et une machine d'alimentation en gaz. Le chargeur/déchargeur de plaquettes permet de charger les plaquettes et de les décharger automatiquement avec un contrôle de précision. Les jauges sans contact fournissent une mesure précise de la température de la plaquette, tandis que les options de mandrin à chaud améliorent l'uniformité thermique à travers la plaquette. La station de préchauffage indépendante fournit un temps de préchauffage rapide avec une uniformité de température élevée de la plaquette, tandis que l'outil d'alimentation en gaz fournit une variété de gaz de procédé pour le dépôt fiable des films. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K est un excellent atout de four de diffusion qui fournit des performances robustes avec des résultats fiables. Sa large gamme de capacités de traitement en font un choix idéal pour une variété de processus. Le chargeur/déchargeur de plaquettes piloté par ordinateur, la station de préchauffage indépendante et les jauges de capacité de vide sans contact augmentent l'efficacité et la précision du modèle. Le four, avec sa haute homogénéité thermique de ± 1 ° C sur une large surface, assure la production de films de haute qualité avec des temps courts.
Il n'y a pas encore de critiques