Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVC #9381849 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVC
ID: 9381849
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2003
Furnaces, 12" Process: CD-Poly Heaater type: VMM-56-002 Mid temp (5) Zones 500~1000°C Gases: N2 SiH4 0.1% PH3/N2 C2H4 ClF3 2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVC est un four de diffusion pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs critiques et les services associés. Conçu pour fonctionner dans un environnement à vide élevé, TEL Alpha 303i-KVC utilise une technique avancée de gestion des gaz pour minimiser la contamination par les oxydes. Le four dispose d'une conception à paroi froide à haut rendement, avec une enveloppe interne en tungstène et un bouclier d'oriel étendu pour se concentrer sur le gradient de température uniforme, tout en réduisant la perte de particules. L'enveloppe interne de tungstène assure également une homogénéité de température supérieure avec des variations de température minimales d'une zone à l'autre, ce qui est bénéfique pour des traitements de diffusion contrôlés précis. Les tuyaux en silice fondue de la conception du four permettent un excellent contrôle du débit de gaz de procédé pour un environnement de traitement de haute qualité. TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVC est également conçu pour assurer une évacuation efficace des sources et des égouts, assurant un flux de matière ininterrompu pour éviter l'oxydation, améliorant ainsi le rendement du dispositif. Pour assurer le maintien de la pression de source et de drain extrêmement élevée, la chambre dispose d'un contrôle numérique de la pression et du débit, avec un choix de pressions d'entrée/sortie allant de 5 à 250 millitorr. Supplémentairement, l'Alpha 303i-KVC inclut un emballage d'AMAT™ CVD-tolérant - autour du soutien de susceptor, en le rendant idéal pour les applications CVD/ALD et en réduisant l'entretien de chambre en réprimant des inquiétudes de particule. Le suscepteur d'enroulement tolérant aux CVD aide également à améliorer l'uniformité des dépôts de films et des résultats de gravure. Le système avancé de contrôle des processus assure des traitements cohérents dans les processus reproductibles et des fonctions programmables faciles à utiliser pour les applications monocouches et multicouches. Afin d'assurer une qualité optimale des processus et des résultats reproductibles, TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVC est conçu pour inclure un diagnostic et une surveillance avancés, y compris la surveillance en temps réel et post-processus via la régulation de pression en boucle fermée et le séquençage de la charge. Le contrôle du processus comprend également l'enregistrement des données à la fois au niveau de la plaquette et des paramètres du processus pour la déclaration et l'analyse approfondies. Dans l'ensemble, TEL Alpha 303i-KVC est un four de diffusion idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs critiques et les services associés, fournissant un environnement de traitement avancé pour des résultats cohérents et reproductibles.
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