Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN #9381864 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN est un four vertical à diffusion monobloc utilisé pour la croissance de matériaux à haute performance tels que du silicium polycristallin, du silicium germanium et du silicium amorphe sur des substrats semi-conducteurs. Ce four est capable de traiter à haute température jusqu'à 1250 degrés Celsius avec une température uniforme de ± 2 degrés Celsius. TEL Alpha 303i-KVCFN offre des performances à haut débit avec de faibles exigences d'entretien et des taux de cyclisme à haute performance jusqu'à 16 plaquettes par heure. En outre, ce four est équipé d'un suscepteur multi-zones avec une technologie indépendante de régulation de la température du suscepteur, ce qui permet un contrôle précis de la température sur une seule plaquette. TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN dispose également d'une construction à faibles émissions et économe en énergie avec un équipement de contrôle informatique avancé pour fournir un contrôle précis de la température et une fiabilité à long terme. Alpha 303i-KVCFN assure une répartition uniforme de la température en raison de la construction de refroidissement direct de l'air. La température de l'air au fond de la chambre de chauffage est refroidie par un flux d'air froid généré par un ventilateur axial dédié à faible bruit. Ceci permet d'assurer des températures uniformes autour du four et ainsi de soutenir la croissance des plaquettes. De plus, il comporte une paroi froide isolée thermiquement pour réduire l'ingestion de chaleur et améliorer l'uniformité de température. TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN offre des performances sans précédent grâce à une multitude de fonctionnalités. Ceux-ci comprennent un système de régulation de température haut de gamme pour fournir un contrôle de température précis avec une large plage de température ; une unité d'injection de gaz avancée qui aide à maintenir des températures uniformes et à mélanger les gaz ; un collecteur de gaz valvé de haute précision pour un contrôle précis de la concentration ; un taux de rampe jusqu'à 6000 ° C/h et une température de maintien jusqu'à 500 ° C ; une source d'énergie P-cinétique pour la nucléation rapide de films de silicium ; et une conception modulaire pour un entretien facile et des mises à niveau. De plus, TEL Alpha 303i-KVCFN utilise une technologie entièrement non polyvalente pour assurer un fonctionnement propre et sûr. Il comprend une machine d'injection de gaz sans chlore qui élimine la formation du sous-produit dangereux hexafluorure de soufre (SF6). Enfin, la sécurité est maintenue grâce à l'utilisation d'un outil de verrouillage pour garantir un fonctionnement ininterrompu et prévenir les blessures du personnel. TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN est un four de diffusion avancé qui fournit une température uniforme, un contrôle précis de la température et un débit élevé pour la croissance de matériaux de haute performance. Ses caractéristiques uniques en font une solution idéale pour la fabrication et le développement de circuits intégrés et autres dispositifs semi-conducteurs.