Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN #9381866 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN
ID: 9381866
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
Furnace, 12" Process: DCS-HTO Heater type: FTP VOS-56-003 4 Zone With RCU Gases: N2, NH3, SiH2Cl2, N2O, SiH4 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN est un four de diffusion et un accessoire conçu pour obtenir un dopage efficace élevé pour le traitement complexe des plaquettes de silicium. Cet appareil de qualité industrielle utilise la méthode de la zone flottante Kappa-V Czochralski (KVC) de croissance cristalline sur puces semi-conductrices. L'équipement offre aux utilisateurs deux lampes KVC, intégrées à un système de pulvérisation en graphite à trois zones pour un chauffage efficace et même la croissance des plaquettes. TEL Alpha 303i-KVCFN dispose d'une grande chambre à quartz refroidi à l'eau avec température contrôlable pour faciliter efficacement la circulation thermosyphonique des gaz de processus de haute pureté. Son unité de base d'alimentation est conçue pour fournir une tension lisse et précise pour chaque lampe KVC afin de garantir un fonctionnement cohérent et précis. Le four dispose également d'un contrôle de température indépendant pour les zones supérieure, moyenne et inférieure, offrant un contrôle total du processus. TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN utilise une unité graphique à barres spéciale pour permettre aux utilisateurs de surveiller et de comparer les différences de température de chaque zone. En outre, la chambre dispose d'éléments de conception spéciaux pour augmenter la résistance à l'oxydation. Ceci améliore considérablement la longévité du four et permet un fonctionnement sûr sur une plus longue période de temps. Le suscepteur de graphite Alpha 303i-KVCFN est conçu pour permettre un contrôle précis de la température tout au long du processus pendant la croissance et le dépôt des cristaux semi-conducteurs. Ceci est encore renforcé par la chambre à quartz ex vacuo, qui régule la température et la pression pour une meilleure qualité et un fonctionnement efficace. En outre, l'outil de distribution de gaz de haute pureté de la machine assure une action dopante efficace sur l'ensemble de la plaquette, éliminant les points chauds et d'autres problèmes. En résumé, TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN est un four et une structure de diffusion de qualité industrielle avec de nombreuses avancées technologiques pour assurer le dopage réussi pour le traitement complexe des plaquettes de silicium. Cet actif offre un meilleur contrôle de la température, une meilleure résistance à l'oxydation et une livraison de gaz de haute pureté pour une meilleure qualité.
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