Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #293592993 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i est un four de diffusion et accessoires associés capable d'effectuer une large gamme de tâches de traitement de semi-conducteurs. En utilisant des lampes halogènes en tungstène et un mélange de gaz, TEL ALPHA-303I est capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 1250 ° C, un exploit impressionnant pour sa taille. Le contrôleur de température intégré et le contrôleur logique programmable (PLC) permettent un contrôle précis et sur mesure de la température de traitement. TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I est équipé d'une chambre de procédé spéciale pour le dépôt thermique et chimique en phase vapeur, le trichlorosilane ou la gravure par voie humide. Cette mise à niveau permet de déposer ou de graver des composés de silicium ou d'aluminium, ou des films de carbone diamant qui peuvent améliorer les propriétés électriques et optiques. TEL ALPHA 303 I offre également la possibilité de déposer ou de graver divers métaux tels que l'aluminium, l'argent, le nickel et le titane. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I est également équipé d'un système d'alimentation électrique, lui permettant de fonctionner à des niveaux de courant et de tension plus élevés que la plupart des autres procédés de diffusion. Ceci permet un contrôle manuel ou programmable du courant et de la tension pour obtenir des temps de traitement plus rapides, ainsi qu'une augmentation de la vitesse de dépôt lors des processus de diffusion latérale. De plus, TEL ALPHA-303 I peut être utilisé dans une variété de procédés tels que l'implantation ionique, la lithographie et la gravure sèche. Les capacités de température et de vide élevées de TOKYO ELECTRON Alpha 303i sont avantageuses pour ces procédés en raison de l'homogénéité thermique améliorée, du taux de dépôt plus élevé et de la contamination réduite. Enfin, un système de serrure à charge monobloc (SWLLS) peut être fixé à TOKYO ELECTRON ALPHA-303I pour améliorer encore les capacités du four de diffusion. Ce système permet un traitement rapide et uniforme de plusieurs plaquettes avec une exposition minimale à l'air, ce qui en fait un excellent atout pour la recherche et le développement. En conclusion, le four de diffusion ALPHA 303 I est un outil puissant et polyvalent pour le traitement des semi-conducteurs. Ses capacités de haute température et de vide, associées à sa capacité à traiter plusieurs plaquettes à la fois, en font un choix attrayant pour les projets de recherche et de développement.