Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #293658165 à vendre en France

ID: 293658165
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
Furnace, 12" Type: Automation Heater Process chamber Temperature controller Scavenger cooling water unit Gas supply unit Exhaust vacuum line Power box Rapid cooling unit Pump box LCVD system Missing parts: Quartz wares Process tube FUJIKIN MFC Air valve HORIBA STEC APC: CKD Gas: PN2, N2, 0.1%PH3, SiH4, CIF3 Power supply: Three Phase, AC 208V Single Phase, AC 120V 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i est un four à diffusion spécialement conçu pour les applications semi-conductrices. C'est un équipement compact et mono-axe qui peut être utilisé pour ajouter des dopants aux plaquettes pour augmenter la conductivité du matériau. TEL ALPHA-303I dispose d'une chambre de four intégrée, à température contrôlée et étanche au vide, permettant d'obtenir des températures de traitement précises et cohérentes. Ses emboîtements sécurisés et ses systèmes de sécurité assurent la sécurité des opérateurs pendant leur fonctionnement. TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I offre la plus grande flexibilité pour les applications de diffusion, y compris la possibilité de fixer des temps de séjour multiples pour différents gaz et mélanges de gaz. La durée du processus est précise et répétable, avec une vitesse de refroidissement réglable permettant un contrôle précis du profil de température. La performance de vide de ALPHA-303I est excellente, avec une pression de base inférieure à 1 Torr et un taux de fuite élevé jusqu'à 5x10 ^ -3 Pa-m ^ 3/sec. Il dispose également de lampes qui surveillent en permanence la propreté du lecteur. TOKYO ELECTRON Alpha 303i fonctionne avec une large gamme de substrats, y compris le quartz, le silicium et l'aluminium. Le suscepteur peut être adapté à la taille spécifique du substrat. Le collecteur de gaz a des conduites d'alimentation et d'échappement séparées avec contrôle des débits et du profil de débit. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I est capable de processus à haute température, jusqu'à 1100 ° C à 100Torr. Il peut également assurer un traitement thermique rapide à des températures allant jusqu'à 1250 ° C ALPHA-303 I comprend un programme de contrôle de séquence pour le traitement d'une seule plaquette et le traitement par lots. Il permet à l'utilisateur de concevoir des séquences spécifiques et de répéter des processus. Le système offre également des fonctions de surveillance à distance et d'enregistrement des données, permettant à l'utilisateur de vérifier le profil de température et l'état de l'unité de pratiquement n'importe où. ALPHA 303 I est une machine fiable et facile à utiliser. Il offre des performances de vide supérieures et des temps de cycle rapides tout en assurant la répétabilité et la fiabilité du processus. Avec ses caractéristiques de sécurité intégrées et ses capacités d'automatisation flexibles, il est idéal pour une large gamme d'applications à base de semi-conducteurs.
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