Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9213304 à vendre en France
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ID: 9213304
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Vertical diffusion furnace, 12"
Process: MTO
Power box
I/O
Heater chamber
Exhaust box
Main top cover
I/O Top cover
Back door
Loadport
Operation panel
(3) Parts boxes
Lot capability: 50
Process speed per unit time:
Wafer CHG, loading: 40
Process: 2H
Wafer DIS-CHG, un-loading: 40
Clock bandwidth: 60 Hz
Frequency: 60 Hz
Power supply:
208 V, 200 A, 3 Phase (Heater)
200 V, 40 A, Single phase (Controller)
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i est un équipement de four à diffusion de pointe conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Cet outil joue un rôle critique dans la réalisation de dispositifs semi-conducteurs avancés en facilitant la diffusion de matériaux dopants dans des plaquettes de silicium pour modifier leurs propriétés électriques. TEL ALPHA-303I est équipé de fonctionnalités et de capacités avancées qui permettent un contrôle précis du processus de diffusion, conduisant à des dispositifs semi-conducteurs de haute qualité et performants. Une des caractéristiques clés de TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I est ses capacités à haute température, lui permettant d'atteindre les températures requises pour les processus de diffusion avec une précision et une stabilité exceptionnelles. Le système est capable d'atteindre des températures allant jusqu'à X degrés Celsius, assurant une diffusion efficace et uniforme des matériaux dopants sur toute la surface de la plaquette. Ce contrôle précis de la température est essentiel pour atteindre les caractéristiques électriques souhaitées des dispositifs semi-conducteurs en cours de fabrication. En plus de ses capacités de régulation de température, Alpha 303i est équipé d'une unité de distribution de gaz sophistiquée qui permet l'introduction précise de gaz dopants dans la chambre de procédé. Cette machine de distribution de gaz permet un contrôle précis de la concentration et de l'écoulement des gaz dopants, assurant un dopage uniforme et cohérent des plaquettes de silicium. L'outil est également équipé de systèmes avancés de surveillance et de contrôle qui permettent aux opérateurs de surveiller et d'ajuster les paramètres de débit de gaz en temps réel, assurant des résultats de diffusion optimaux. ALPHA-303 I dispose d'une configuration de plaquette horizontale, qui permet de traiter plusieurs plaquettes simultanément, augmentant le débit et l'efficacité dans la fabrication de semi-conducteurs. L'actif est également conçu pour accueillir des plaquettes de différentes tailles, ce qui le rend polyvalent et adaptable aux différentes exigences de production. La configuration horizontale du modèle assure une répartition uniforme de la chaleur et des gaz dopants sur toutes les plaquettes, ce qui donne des résultats de diffusion cohérents et fiables. En outre, ALPHA 303 I est équipé d'une gamme de dispositifs de sécurité pour assurer la protection des opérateurs et l'intégrité du processus de fabrication. L'équipement est conçu avec des dispositifs de sécurité complets et des alarmes pour prévenir les accidents et assurer le respect des normes de sécurité de l'industrie. De plus, TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I dispose de systèmes intégrés de diagnostic et de surveillance qui permettent de détecter rapidement tout problème ou anomalie, de réduire les temps d'arrêt et de minimiser les risques de dommages aux plaquettes. Dans l'ensemble, TEL ALPHA 303 I système de four de diffusion est un outil très avancé et fiable pour les processus de fabrication de semi-conducteurs. Avec son régulateur de température précis, son unité de distribution de gaz avancée, sa configuration horizontale de plaquettes et ses caractéristiques de sécurité complètes, ALPHA-303I offre aux fabricants de semi-conducteurs les capacités et le contrôle dont ils ont besoin pour produire des dispositifs de haute qualité et performants efficacement.
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