Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9357815 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i
ID: 9357815
Taille de la plaquette: 12"
LP P-Doped poly furnace, 12" Process: D-Poly-small flow Boat operation: (2) Boats ASYST / ATR9100 Furnace unit: Heater type: VMM-56-002 5 zones / 500°C -1000°C T/C For over temperature protection: Kit, chamber O.H.SNSR Temperature controller: MA901-8FK09-Z250A Wafer / Carrier handing: Wafer type: Semi standard notch, 12" Carrier type: FOUP / 25-Slots (16) Carrier storages Fork type / material: 1+4 / Al203 W/T Wafer I/F speed (U/D) Wafer loading / Unloading sequence: ED => P => M / M => P => ED Boat / Pedestal: Production wafers: (100) Wafers Boat material: SiC with CVD-coat Boat type: (117) Slots ladder, 8mm Boat rotation Pedestal type: Quartz Process tube: Quartz outer and inner tube Inner type: Straight Internal T/C type Outer tube interior wall type Tube sealing: O-Ring seal Fab constraint: Waves system controller Front operation panel Front MMI and gas flow chart: MMI and GFC General pressure display unit: Pressure-Mpa / Vac-Torr Gas cabinet exhaust display unit: SI (Pa) Furnace temperature controller: M560A Vacuum system: Main valve: CKD VEC Vacuum exhaust system Vacuum pressure controller: CKD VEC Vacuum gage: Pressure control: MKS Capacitance manometer Press monitor: MKS Capacitance manometer (133 kPa) Pump monitor: MKS Capacitance manometer Gas distribution system: Basic style: Integrated gas system Tubing: Stainless steel / Electrical-polish (STD) FUIJKIN Manual valve FUIJKIN Air-operated valve MYKROLIS Filter VERIFLO Regulator Soft backfill injector MFC: SiH4: 3 SLM PH3: 500 SCCM PH3: 50 SCCM PH3: 30 SCCM ClF3: 5 SLM N2: 3 SLM (4) N2: 5 SLM Process pressure: 73 Pa, 133 Pa Process temperature: 510°C, 525°C, 530°C.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i est un appareil de four à diffusion haute performance conçu pour être utilisé dans la production liée aux IC. Il est équipé d'un système de chauffage avancé qui permet des résultats plus rapides et plus cohérents. Le four est construit en acier inoxydable dur et épais pour assurer la fiabilité et la précision à long terme. Il comprend une unité automatisée de transfert d'échantillons capable de placer des échantillons dans le four à un débit extrêmement élevé. En termes de performances, TEL ALPHA-303I est capable d'effectuer des temps de chauffe rapides allant jusqu'à 900 ° C en quelques minutes. Il est équipé d'une machine de régulation de température innovante qui assure une température extrêmement uniforme tout au long du processus de chauffage. Même en travaillant avec de très grands substrats, l'outil peut maintenir une température constante sans aucune différence. En outre, TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I est équipé d'un outil de contrôle électronique de puissance avancé qui réduit la consommation d'énergie et fournit un contrôle de température de haute qualité. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I comprend une variété de fonctionnalités supplémentaires pour améliorer ses performances. Il dispose d'un module intégré de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui permet le dopage sur mesure des substrats électriques, ce qui en fait un choix idéal pour la production en IC. À côté de cela, il comprend également une variété d'accessoires tels qu'un bateau à quartz, des couvertures en céramique et des bocaux. Ces ajouts améliorent encore les performances du dispositif en permettant une meilleure répartition de la chaleur. Dans l'ensemble, TEL ALPHA-303 I est un modèle de four à diffusion haute performance conçu pour la production liée à IC. Il est construit en acier inoxydable pour assurer la longévité et la précision. Il est également équipé d'une variété de fonctionnalités, dont un équipement automatisé de transfert d'échantillons, des temps de chauffage rapides, un système de régulation de la température et un module CVD. En outre, il comprend une variété d'accessoires qui peuvent améliorer encore ses performances.
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