Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9357815 à vendre en France
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ID: 9357815
Taille de la plaquette: 12"
LP P-Doped poly furnace, 12"
Process: D-Poly-small flow
Boat operation: (2) Boats
ASYST / ATR9100
Furnace unit:
Heater type: VMM-56-002 5 zones / 500°C -1000°C
T/C For over temperature protection: Kit, chamber O.H.SNSR
Temperature controller: MA901-8FK09-Z250A
Wafer / Carrier handing:
Wafer type: Semi standard notch, 12"
Carrier type: FOUP / 25-Slots
(16) Carrier storages
Fork type / material: 1+4 / Al203
W/T Wafer I/F speed (U/D)
Wafer loading / Unloading sequence: ED => P => M / M => P => ED
Boat / Pedestal:
Production wafers: (100) Wafers
Boat material: SiC with CVD-coat
Boat type: (117) Slots ladder, 8mm
Boat rotation
Pedestal type: Quartz
Process tube:
Quartz outer and inner tube
Inner type: Straight
Internal T/C type
Outer tube interior wall type
Tube sealing: O-Ring seal
Fab constraint:
Waves system controller
Front operation panel
Front MMI and gas flow chart: MMI and GFC
General pressure display unit: Pressure-Mpa / Vac-Torr
Gas cabinet exhaust display unit: SI (Pa)
Furnace temperature controller: M560A
Vacuum system:
Main valve: CKD VEC
Vacuum exhaust system
Vacuum pressure controller: CKD VEC
Vacuum gage:
Pressure control: MKS Capacitance manometer
Press monitor: MKS Capacitance manometer (133 kPa)
Pump monitor: MKS Capacitance manometer
Gas distribution system:
Basic style: Integrated gas system
Tubing: Stainless steel / Electrical-polish (STD)
FUIJKIN Manual valve
FUIJKIN Air-operated valve
MYKROLIS Filter
VERIFLO Regulator
Soft backfill injector
MFC:
SiH4: 3 SLM
PH3: 500 SCCM
PH3: 50 SCCM
PH3: 30 SCCM
ClF3: 5 SLM
N2: 3 SLM
(4) N2: 5 SLM
Process pressure: 73 Pa, 133 Pa
Process temperature: 510°C, 525°C, 530°C.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i est un appareil de four à diffusion haute performance conçu pour être utilisé dans la production liée aux IC. Il est équipé d'un système de chauffage avancé qui permet des résultats plus rapides et plus cohérents. Le four est construit en acier inoxydable dur et épais pour assurer la fiabilité et la précision à long terme. Il comprend une unité automatisée de transfert d'échantillons capable de placer des échantillons dans le four à un débit extrêmement élevé. En termes de performances, TEL ALPHA-303I est capable d'effectuer des temps de chauffe rapides allant jusqu'à 900 ° C en quelques minutes. Il est équipé d'une machine de régulation de température innovante qui assure une température extrêmement uniforme tout au long du processus de chauffage. Même en travaillant avec de très grands substrats, l'outil peut maintenir une température constante sans aucune différence. En outre, TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I est équipé d'un outil de contrôle électronique de puissance avancé qui réduit la consommation d'énergie et fournit un contrôle de température de haute qualité. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I comprend une variété de fonctionnalités supplémentaires pour améliorer ses performances. Il dispose d'un module intégré de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui permet le dopage sur mesure des substrats électriques, ce qui en fait un choix idéal pour la production en IC. À côté de cela, il comprend également une variété d'accessoires tels qu'un bateau à quartz, des couvertures en céramique et des bocaux. Ces ajouts améliorent encore les performances du dispositif en permettant une meilleure répartition de la chaleur. Dans l'ensemble, TEL ALPHA-303 I est un modèle de four à diffusion haute performance conçu pour la production liée à IC. Il est construit en acier inoxydable pour assurer la longévité et la précision. Il est également équipé d'une variété de fonctionnalités, dont un équipement automatisé de transfert d'échantillons, des temps de chauffage rapides, un système de régulation de la température et un module CVD. En outre, il comprend une variété d'accessoires qui peuvent améliorer encore ses performances.
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