Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 801D #149843 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 801D est un four de diffusion et des accessoires. Il est utilisé dans un large éventail d'industries, y compris la fabrication de semi-conducteurs et la recherche, pour déposer des couches optiques, électriques et thermiques sur divers substrats. Il est spécifiquement conçu pour traiter simultanément plusieurs types de matériaux, aidant à la réalisation de dispositifs complexes. TEL Alpha 801D est un four de diffusion vertical qui est livré avec un loadlock et des éléments de flanc, ce qui en fait un emballage tout-en-un. Son quartz Quartz Process Tube (QPT) est conçu pour des températures élevées, permettant la diffusion de matériaux à la fois non métalliques et métalliques avec une excellente homogénéité. La chambre de procédé est en outre équipée d'un équipement de chauffage à six zones à base de cavité, qui assure des températures uniformes, même lors des opérations de production à haut volume. De plus, l'utilisation de systèmes de changement d'échantillon et de contrôle du débit permet une bonne uniformité thermique tout au long du cycle de traitement. Le four est construit avec des capteurs de température et un contrôleur, qui fournissent des données en temps réel à l'utilisateur concernant les conditions de température de la chambre de traitement. Ces données peuvent être affichées sur l'écran LCD du contrôleur ou via le logiciel SCADA inclus. Le four est également doté d'un système intégré de distribution de gaz qui permet l'introduction de gaz réactifs de manière automatisée, et d'un contrôleur de sécurité en option, qui assure un fonctionnement sûr. TOKYO ELECTRON Alpha 801D peut accueillir plusieurs types de substrats, de 2 « à 8 » carrés, qui peuvent être manipulés avec une machine de manutention de substrats en option. Il est également livré avec un joint d'asphalte pour une meilleure étanchéité, permettant la diffusion de températures plus élevées sans risque de fuite ou de microcraquage. Alpha 801D est un outil puissant et polyvalent qui permet non seulement de produire avec précision des couches de diffusion, mais aussi d'effectuer des traitements thermiques avec une grande précision. Sa répartition uniforme des températures, ses opérations à haute température, son outil fiable de changement d'échantillon et ses moyens intégrés de distribution de gaz assurent un dépôt fiable et précis des couches métalliques sur divers substrats.