Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 805SC #293622204 à vendre en France

ID: 293622204
Style Vintage: 1994
Diffusion furnace 1994 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 805SC est un four de diffusion de haute qualité qui fournit un contrôle thermique précis et une large gamme de températures pour une grande variété de procédés. C'est un outil précieux pour la fabrication de dispositifs et d'autres industries connexes. TEL Alpha 805SC est conçu pour répondre aux besoins des processus les plus exigeants. Il est capable de produire des profils de température uniformes et contrôlés avec une grande homogénéité et répétabilité. La grande taille de la chambre permet le traitement simultané de plusieurs substrats. De plus, le grand volume de la chambre et la montée en température rapide jusqu'à 950 ° C avec une précision ± 2 ° C assurent des résultats cohérents pour les applications critiques. TOKYO ELECTRON Alpha 805SC dispose d'un faible gradient thermique pour maintenir des températures uniformes sur toute la surface de la plaquette. La température de la chambre est surveillée et maintenue dans trois zones de température pour assurer un chauffage uniforme. Il dispose également d'une interface Multi-Point Four qui permet la connexion avec les systèmes de cartographie des plaquettes, permettant la surveillance et le contrôle de jusqu'à 28 sites de thermocouple. Alpha 805SC est également équipé de plusieurs systèmes de sécurité, y compris l'épuration de l'azote et le refroidissement de l'eau, pour assurer la sécurité des opérateurs et des systèmes. En outre, le four est conçu avec une accessibilité facile pour l'entretien et sans entretien des éléments de chauffage pour garantir le temps disponible. TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 805SC est un four de diffusion de haute performance, fiable et très avancé avec une large gamme d'applications. C'est la solution parfaite pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et les procédés avancés tels que LPCVD, ALD, RTP et HTM. Son contrôle de la température de précision, sa large plage de température et sa grande uniformité sur la surface de la plaquette en font un choix idéal pour tout procédé avancé.
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