Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S-Z #293811679 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S-Z
ID: 293811679
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
Furnace, 8" 1998 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8S-Z est un four de diffusion et un accessoire pour la préparation et l'analyse précise des échantillons. Cet équipement permet aux utilisateurs de préparer et de réaliser avec précision divers procédés de dépôt, recuit et dopage en couches minces. Le système est bien adapté à la production, à la R-D, à la recherche et aux applications expérimentales. TEL ALPHA 8SZ comprend un ordinateur central et une chambre de serrure. L'ordinateur central est équipé d'une plaquette de 8 pouces Transfer-ELock qui est compatible avec les opérations cassette-à-cassette et charge-lock-à-charge-lock, permettant ainsi une préparation rapide et facile de l'échantillon. De plus, l'ordinateur central contient un générateur RF haute fréquence spécialement conçu, une unité d'alimentation en oxygène montée verticalement, une machine d'alimentation en azote et un outil d'échappement. La chambre de serrure est conçue pour assurer un transfert d'échantillon fiable entre la chambre de pré-vide, la chambre principale et la chambre de post-vide et donc pour protéger la surface de la plaquette contre toute contamination. Il est équipé d'un Vent-ELock 24 portes arrière, qui peut être utilisé pour transférer des plaquettes vers/depuis l'ordinateur central. La chambre contient également une source de plasma qui peut être utilisée pour nettoyer les surfaces des plaquettes. Le Vent-ELock fournit également une mesure de température avec support thermocouple. L'actif de traitement des plaquettes fournit une variété de procédés pour le dépôt en couches minces, le recuit et les applications de dopage. Les procédés thermiques et plasmatiques peuvent être utilisés pour le dépôt, le recuit et le dopage. Les procédés thermiques peuvent utiliser divers gaz, dont l'azote, l'argon, l'oxygène, l'hydrogène et l'ammoniac. Le contrôle automatisé des processus thermiques garantit un dépôt en couches minces de la plus haute qualité. Le modèle peut également être utilisé pour le recuit thermique jusqu'à 1000 ° C et est équipé de différentes options de four, permettant une large gamme de températures de recuit et de pressions relatives. En outre, l'équipement est équipé d'une électrode de plaquette et d'un évacuateur de gaz chauffé pour les procédés avancés de dopage des plaquettes. TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S-Z offre un fonctionnement à haut débit, un transfert d'échantillon fiable et un excellent contrôle des processus. Il s'agit d'un système performant qui répond aux exigences les plus exigeantes en matière de dépôt de couches minces, de recuit et de dopage.
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