Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S ZVF #9227418 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8S ZVF est un four et un accessoire de diffusion de pointe, spécifiquement utilisé pour le traitement des plaquettes dans l'industrie des semi-conducteurs. L'équipement TEL Alpha 8S ZVF offre une excellente homogénéité de température, des débits élevés et des rendements de plaquettes améliorés pendant les processus CVD et de diffusion. Les caractéristiques du système TOKYO ELECTRON Alpha 8S ZVF comprennent une conception de chambre double pour CVD haute température, une chambre de processus haute pression et haute température, et une chambre d'environnement améliorée pour un meilleur débit de plaquettes. Alpha 8S ZVF comprend également un four en ligne supplémentaire, un module optionnel de performance Ultra High Vacuum (UHV), et est conçu pour améliorer la distribution des gaz pour améliorer le contrôle global des processus. La conception à double chambre de TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8S ZVF permet un flux de processus en deux étapes avec des modules CVD à haute température et de traitement thermique rapide (RTP) ou de recuit thermique rapide (RTA), ce qui permet une meilleure couverture des étapes, une meilleure uniformité des processus et des débits plus élevés. La conception à double chambre comprend également une tête de douche électrique à quartz qui distribue uniformément les gaz de traitement, ainsi qu'un élément chauffant à faible puissance pour une meilleure sécurité. Le module haute pression et haute température TEL Alpha 8S ZVF assure le maintien de la température de contact, tout en assurant une excellente homogénéité des matériaux et un débit élevé de plaquettes. Ce module est conçu pour supporter des pressions allant jusqu'à 600 torr et des températures allant jusqu'à 1400 degrés Celsius, et comprend également une double zone quartz-feuille de carbone, un four amélioré recouvert d'or quartz-carbone et une unité de distribution de gaz en boucle fermée. En outre, TOKYO ELECTRON Alpha 8S ZVF four est conçu pour améliorer le contrôle des processus et la sécurité, fournissant aux utilisateurs un contrôle précis de la température du gaz et une plus grande fenêtre de processus. Le module de performance optionnel Ultra High Vacuum (UHV) d'Alpha 8S ZVF offre un environnement de pression encore plus bas pour le plasma et les procédés assistés par vide, permettant des processus à basse pression et à ultra haute température jusqu'à 1400 degrés Celsius. Ce module est également doté d'un seul élément en quartz, d'une double tête de douche électrique en quartz pour répartir uniformément les gaz de traitement et d'un élément chauffant à faible puissance pour une meilleure sécurité. La machine Alpha 8S ZVF TEL/TOKYO ELECTRON est conçue pour fournir à l'industrie des semi-conducteurs une excellente homogénéité de température, des débits élevés et des rendements de plaquettes améliorés pendant les processus CVD et de diffusion. La conception à double chambre, le module haute pression, haute température et le module UHV optionnel de l'outil offrent une meilleure couverture des étapes, une meilleure uniformité des processus et des débits plus élevés, assurant des rendements de plaquettes accrus et un meilleur contrôle des processus.