Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #9060562 à vendre en France
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Vendu
ID: 9060562
Vacuum anneal furnace, 8"
8" Interface cassette
Through wall installation
H2 and N2 Anneals
Brooks 5964 MFCs
MFC 1 - N2 10 slm
MFC 2 - N2 10 slm
MFC 3 - H2 5 slm
MFC 4 - H2 10 slm
MFC 5 - H2 5 slm
(2) Hydrogen detectors
(100) Wafer loads
1200C Heat range core
Rapid cool
Lipseal, Inner T/C, linear aligner up / down axis side motions
No variable pitch: Single or (5) wafer
16" Process tube
TS-4000Z Controller
Temperature controller: Model 121
Boat, CLN OX - 07-00202
Cover pedestal - 07-00204
Pedestal - 07-00205
PFA tube (6.35x4.35x1.0T)
3 Phase
Voltage: 208V
Direction: Left
Load station:
(2) I/O Ports
(2) Cassette arms
SMIF Loader: No
N2 Purged loadlock: No
WIP Carrier storage capacity: 8
End effector: 1 or 5, Fixed pitch
Wafer spacing: Fixed
Boat rotation: No
Furance:
(5) Zones
Heater type: VMM-35-001
Rapid cooling configuration: No
Tube seal configuration: O-ring
Temperature control methodology: PID
Thermocouple: Type R
External torch: No
H2 Burn off: No
Bubbler system: No
Gas leak detection: Yes (H2 and O2)
Moisture sensor: No
Process gases (atmospheric): N2, H2
MFC1 Model / type: Brooks 5964
Process gases: N2
Flow rate: 20 SLM
MFM1: Model / type: Brooks 5964
Process gases: N2
Flow rate: 10 SLM
MFC2 Model / type: Brooks 5964
Process gases: H2
Flow rate: 5 SLM
MFC3 Model / type: Brooks 5964
Process gases: H2
Flow rate: 10 SLM
MEC4 Model / type: Brooks 5964
Process gases: H2
Flow rate: 5 SLM
Process pressure control system:
Vacuum pump: EDWARDS QDP80
Pressure controller: VARIAN LR300
Process manometer: MKS 625A 100
Pressure differential manometer: MKS 625A 1000
Inline cold trap: No
Inline particle trap: No
Manuals.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8S est un appareil de four à diffusion haute performance conçu pour la production de MEMS, de semi-conducteurs, d'écrans plats et d'oxyde métallique. Il dispose d'une chambre de four autonome avec un processus automatisé en plusieurs étapes qui est optimisé pour les paramètres avancés du processus thermique. Il utilise un procédé piloté par ordinateur pour contrôler toutes les opérations de chauffage et de refroidissement de la chambre du four. TEL ALPHA-8S est équipé d'un système manuel de dépôt de quartz et de creusets automatiques, d'émetteurs infrarouges, d'un refroidissement à air variable et d'autres réglages avancés, ainsi que d'un système de chauffage breveté TEL « Lone Beacon » qui oriente l'énergie RF dans la chambre pour chauffer ou refroidir rapidement et précisément la charge cible. Différentes variables de processus telles que la température, le temps, la pression et les gaz atmosphériques peuvent être ajustées en fonction des exigences spécifiques des applications. Cette technologie de pointe offre des performances inégalées pour les applications critiques de traitement thermique, permettant aux utilisateurs de profiter de paramètres de processus avancés pour un rendement élevé et des résultats de haute précision. TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S dispose d'une unité d'échappement intégrée pour éliminer les gaz nocifs et les particules atmosphériques, ainsi que de caractéristiques réglables pour répondre à différentes applications de processus, y compris le traitement des plaquettes d'oxyde métallique et de silicium. ALPHA 8 S est l'un des systèmes les plus fiables et les plus efficaces disponibles, avec une couverture 100 % test fournissant des résultats de qualité inégalés. L'uniformité de température est un niveau de référence, atteignant +/- 5 ° C ainsi qu'un contrôle de pression précis avec une résolution de 0,01 kPa. Son interface utilisateur intuitive le rend facile à apprendre et à utiliser, et les contrôles numériques permettent une optimisation facile des processus. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S offre également un certain nombre de caractéristiques de sécurité, telles que des embouts tactiles ouverts, l'arrêt automatique lorsque la température ou la pression excessive est détectée, et l'autosurveillance des cycles de préchauffage et de refroidissement. Cette machine polyvalente est conçue pour répondre à des normes industrielles strictes, ce qui en fait un choix idéal pour un traitement thermique avancé.
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