Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #9245683 à vendre en France
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Vendu
ID: 9245683
Style Vintage: 2000
Furnace
Layout type: U/Box type (L)
System hand: LL
N2 Load lock
Heater type: WMM-40-101 Mid temperature
Torch heater
TEL Integrated SMIF
Process gasses:
Gas 1: N2 (20 SLM)
Gas 2: N2 (5 SLM)
Gas 3: N2 (1 SLM)
Gas 4: NH3 (2 SLM)
Gas 5: DCS (200 SCCM)
Gas 6: O2 (2 SLM)
Gas distribution system:
Basic style: Conventional gas system
Tubing material: Stainless system
Electro-polished tube
FUJIKIN Manual valve
FUJIKIN Air operated valve
MFC: AERA
Wafer / Cassette handling:
Wafer type: 8" Semi STD-Notch
Cassette type: ENTEGRIS / XT200-01E
(25) Cassette wafers
(16) Cassette storage
1+4 Fork type / Material
Fork variable pitch
Boat / Pedestal:
(150) Production wafers
Boat rotation
System controller: TS-4000Z
Signal tower
General pressure display unit: Pressure Mpa
Cabinet exhaust display unit: Kpa
Furnace temperature controller: M121
Power supply:
Voltage:
208 VAC at 3 Phase
120 VAC at 1 Phase
UPS Input / Output voltage: 120 V / 100 V
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8S Diffusion Four est un outil de pointe pour la fabrication de semi-conducteurs. Avec une large gamme de caractéristiques, il offre une homogénéité et une homogénéité de température avancées, permettant un traitement semi-conducteur précis. TEL ALPHA-8S peut fonctionner en mode LPCVD (dépôt chimique en phase vapeur à basse pression) ou RPCVD (dépôt chimique en phase vapeur à pression rapide). En mode LPCVD, l'uniformité entre les plaquettes est ± 0,5 ° C, offrant une excellente répétabilité et des gradients à basse température. En mode RPCVD, l'uniformité entre les plaquettes est ± 0,2 ° C, ce qui permet un contrôle encore plus précis. TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S dispose également d'une large gamme de températures allant de 150 ° C à 1050 ° C, permettant une variété de procédés. En plus de l'uniformité, ALPHA-8 S offre également des temps de rampe de température rapides. Sa conception de hotwall fournit de grandes cellules de convection pour un chauffage et un refroidissement rapides, permettant des vitesses de traitement rapides. Alpha 8S peut atteindre la température cible en moins de 60 secondes, éliminant la nécessité de refroidir la chambre manuellement. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S fournit également une variété d'accessoires pour faciliter la fabrication de semi-conducteurs. Il s'agit notamment de systèmes collecteurs de gaz haute ou basse pression, de chambres de pression à quartz, de réservoirs de réaction LPCVD et de systèmes de muffles à quartz pour éviter tout contact avec les surfaces chaudes. L'ALPHA 8 S a également des débits d'alimentation étanches aux gaz pour l'introduction de gaz réactifs dans le système. Ceci permet des vitesses de réaction allant jusqu'à 55cmand des pressions allant jusqu'à 10 bars. TEL Alpha 8S dispose également d'un système automatisé de manutention des plaquettes pour accélérer le processus de chargement et de déchargement. Ce système consiste en un bras robotique avec une main pré-automatisée pour le chargement et le déchargement simples et reproductibles des plaquettes. TOKYO ELECTRON Alpha 8S est un outil idéal pour un traitement semi-conducteur précis et efficace. il offre une excellente uniformité de température et d'homogénéité ainsi que des temps de rampe de température rapides, et une sélection robuste d'accessoires pour la fabrication fiable et contrôlée de semi-conducteurs.
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