Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SE-Z #293738562 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8SE-Z est un four de diffusion avancé et très efficace utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le traitement thermique des plaquettes de silicium. Ce modèle est équipé de diverses caractéristiques et accessoires qui améliorent ses performances et sa fiabilité dans l'obtention d'un contrôle précis de la température et de l'uniformité pendant le processus de diffusion. Une des caractéristiques clés du four de diffusion TEL ALPHA 8SEZ est sa capacité à haute température, lui permettant d'atteindre des températures allant jusqu'à 1200 degrés Celsius. Cette large gamme de températures est essentielle pour la réalisation de différents procédés thermiques tels que l'oxydation, la diffusion et le recuit dans la fabrication de semi-conducteurs. Le contrôle précis de la température du four est obtenu grâce à des éléments chauffants avancés et un équipement sophistiqué de surveillance de la température, assurant des résultats cohérents et fiables. TOKYO ELECTRON ALPHA-8SE-Z est conçu avec plusieurs zones de chauffage, chacune contrôlée indépendamment pour créer un gradient de température sur la longueur de la chambre du four. Cette conception permet aux utilisateurs de personnaliser le profil thermique pour des exigences de processus spécifiques, telles que la réalisation de profils dopants précis dans les plaquettes de silicium. Les éléments chauffants sont faits de matériaux de haute qualité qui fournissent des temps de chauffage et de refroidissement rapides, minimisant les temps de cycle de processus et améliorant la productivité globale. Pour améliorer encore l'uniformité de température sur la surface de la plaquette, ALPHA 8 SE Z est équipé d'un système de débit de gaz spécialisé qui assure une répartition uniforme des gaz de traitement dans la chambre. Cette caractéristique permet d'éviter les non-uniformités dans les concentrations de dopage et les épaisseurs d'oxyde, ce qui améliore les performances et le rendement du dispositif. De plus, l'unité de débit de gaz permet un contrôle précis de l'atmosphère ambiante à l'intérieur du four, critique pour créer les réactions chimiques souhaitées lors du processus de diffusion. En termes de manutention et de chargement des plaquettes, TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 SE Z propose un ensemble complet d'accessoires conçus pour un traitement efficace et sûr des plaquettes. Le four est équipé d'une machine de chargement de bateau de wafer qui est compatible avec les différentes tailles de wafer, assurant la flexibilité dans la production et le développement des processus. L'outil de chargement des wafer boat comprend également des mécanismes de manutention automatisés qui minimisent l'intervention de l'opérateur et réduisent le risque de rupture ou de contamination des wafer. Le four de diffusion Alpha 8SE-Z fonctionne grâce à une interface conviviale qui assure le contrôle intuitif et la surveillance des paramètres du processus. L'interface permet aux utilisateurs de configurer des recettes de processus personnalisées, de surveiller les profils de température en temps réel et de suivre la progression de chaque lot de plaquettes. De plus, le four est équipé de dispositifs de sécurité avancés tels que la protection contre les températures excessives, la détection des fuites de gaz et les capacités d'arrêt d'urgence pour assurer le fonctionnement sécuritaire de l'équipement et prévenir les risques potentiels. Dans l'ensemble, le four de diffusion TOKYO ELECTRON Alpha 8SE-Z est un outil polyvalent et fiable pour les fabricants de semi-conducteurs à la recherche de solutions de traitement thermique précises et efficaces. Ses fonctionnalités avancées, sa capacité à haute température, son uniformité de température et son interface conviviale le rendent idéal pour une large gamme d'applications de diffusion dans l'industrie des semi-conducteurs. Que ce soit pour la recherche et le développement ou la production à haut volume, TEL ALPHA-8SE-Z offre les performances et la fiabilité requises pour répondre aux exigences exigeantes des procédés modernes de fabrication de semi-conducteurs.