Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SE #122707 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 122707
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2007
Thermal process furnace, 8" Flat type wafer Signal tower: (4) color I/O type Rapid cooling unit Capacity: (125) wafers per batch Controller Waves V3.23 R001 (D01FFF-000F) (2) HDD: 4.3 GB TEB 408 HDMC Rev 2.0B SVA 041 TEB 107 ECS5 DVE P750/51-TR TEB 103 FPIF Temperature controller: 560A Pressure controller: CKD VEC-CP2 WVG controller: WVG-SC-010Y1B2B Vacuum pump: Ebara A150W-T 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8SE est un équipement de traitement thermique et chimique de pointe qui est utilisé dans une variété d'industries pour une variété de matériaux. C'est l'un des systèmes de pointe les plus avancés pour le traitement de films minces avec la plus haute qualité de précision, précision et fiabilité. TEL ALPHA-8SE est un four de diffusion conçu pour assurer un traitement uniforme de plusieurs substrats au moyen d'un procédé par lots au niveau des tranches. Ce système comprend également plusieurs autres composants qui offrent un certain nombre d'options pour un dépôt en couche mince extrêmement souple et précis et une gravure plasma. Le four de diffusion TOKYO ELECTRON ALPHA-8 SE est équipé d'une chambre de procédé semi-conductrice équipée d'un capteur infrarouge (IRS) capable de détecter les changements de température dans la chambre. Ceci est associé à un certain nombre d'accessoires accessoires, tels qu'une unité d'enlèvement automatisé de film S-CENTRE, une machine de dépôt de particules à haut rendement et un plateau RF. En outre, cet outil a également des recettes supplémentaires qui peuvent être sauvegardées pour une programmation plus facile et des processus répétables. L'actif de dépôt à haute efficacité et à basse température permet un dépôt en couches minces plus rapide et uniforme. Le plateau RF permet un traitement lisse et uniforme des substrats de grande surface. Le four de diffusion TEL ALPHA 8 SE utilise un contrôle dynamique d'entrée de gaz, ce qui contribue à améliorer l'uniformité dans la chambre et à réduire le temps de traitement. La technologie de contrôle avancée assure un traitement cohérent, peu importe le type de plaquette et la taille du substrat. Ce modèle offre également un débit exceptionnel pour le traitement par lots au niveau des plaquettes et supporte jusqu'à 8 plaquettes, ce qui le rend parfait pour une utilisation industrielle. Outre le four de diffusion, ALPHA 8 S E comprend une variété d'accessoires, tels que deux robots piédestaux alimentés par ventilateur à distance, un module programmable de dépôt de tube de quartz, un module de gravure de plasma, ainsi qu'une variété d'autres outils et équipements. Les deux robots piédestaux à ventilateur à distance facilitent le chargement des plaquettes et offrent une fiabilité de transfert et une répétabilité de processus inégalées. Le module à tube en quartz programmable assure un dépôt uniforme de matériaux complexes et de profils en forme libre. Enfin, le module de gravure plasma aide à éliminer les matériaux indésirables et à améliorer la qualité et l'uniformité des procédés. Le four de diffusion TEL ALPHA-8 SE et ses accessoires fournissent un équipement de dépôt et de gravure plasma extrêmement souple et précis qui peut aider une variété d'industries à obtenir des procédés plus efficaces et des produits de meilleure qualité. Ce système est extrêmement fiable et fournit un traitement de haute précision avec le plus haut niveau de précision. La fiabilité, la flexibilité et la précision que TOKYO ELECTRON ALPHA 8 SE peut fournir en font l'un des meilleurs systèmes disponibles pour le traitement thermique et chimique.
Il n'y a pas encore de critiques