Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SE #9093709 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8SE est un four de diffusion monobloc conçu pour les fabricants cherchant une solution de traitement thermique rentable qui déploie la technologie horizontale monobloc. L'équipement comprend des innovations brevetées en topologie de wafer, chambres de chauffage verticales pour maintenir l'uniformité de température, et une gamme de capacités de gaz de processus. TEL ALPHA-8SE est un four de diffusion qui utilise du gaz à haute température pour oxyder ou réduire des plaquettes dans une installation de plaquettes horizontales. Il comprend une chambre chauffante verticale avec une plaque chauffante interne qui peut atteindre des températures allant jusqu'à 1400 ° C, avec une uniformité de ± 2 ° C sur toute la surface. La capacité thermique du système et le contrôle uniforme de la température permettent un excellent contrôle du traitement thermique, avec des temps de traitement allant de quelques secondes à plusieurs heures. TOKYO ELECTRON ALPHA-8 SE met également en œuvre les dernières technologies de gaz de procédé, soutenant l'utilisation d'Ar, H2, N2, N2O, O2, et d'autres gaz. L'unité comprend une machine de contrôle de gaz multi-étapes, permettant aux utilisateurs de contrôler avec précision les flux de gaz et les rapports de mélange des composants de gaz individuels. Il supporte également jusqu'à 8 vannes d'extraction, permettant aux utilisateurs de personnaliser leurs recettes de diffusion. Pour plus de flexibilité, TOKYO ELECTRON ALPHA 8 SE dispose également d'une large gamme d'accessoires, y compris des supports de plaquettes supplémentaires, des composants de manutention de plaquettes, un outil de refroidissement CVD côté arrière, et un moniteur de température de traitement garanti. TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S E dispose également d'installations de support contrôlées par ordinateur pour la maintenance, le processus de fonctionnement, l'inspection thermique et la mesure. ALPHA 8 SE est une solution de diffusion très efficace et économique pour les fabricants de semi-conducteurs. Sa conception flexible et fiable peut être utilisée pour traiter une variété d'applications de semi-conducteurs, avec une précision accrue et des recettes de processus personnalisables. Des caractéristiques telles que l'actif de contrôle du gaz avancé et les capacités de gaz de processus multiples aident à assurer le succès du traitement thermique tout en permettant une miniaturisation uniforme de lot à lot.