Occasion TEL / TOKYO ELECTRON APT-2800 #9280808 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON APT-2800
ID: 9280808
Atmospheric pressure chemical vapor deposition furnace.
TEL/TOKYO ELECTRON APT-2800 est un four de diffusion et un emballage accessoire utilisé principalement dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs pour le dépôt et/ou la ségrégation dopante de couches minces sur des plaquettes semi-conductrices. Il dispose de la construction de chambre à quartz, avec un chauffe-wafer intégré, une conception efficace muffle-souffleur, et un contrôleur de processus numérique direct pour un contrôle précis de la température. L'ensemble est construit pour accueillir deux bateaux de wafer dans son intérieur et intègre un équipement de gaz innovant pour assurer une qualité de film uniforme. TEL APT-2800 utilise un système de commande en boucle ouverte pour l'équilibre électro-thermique afin d'assurer un contrôle précis de la température de la chambre de diffusion, ce qui permet aux processus de chauffage et de refroidissement de se produire rapidement et efficacement. Le réchauffeur à plaquettes intégré dans l'emballage a une plage réglable de 300 degrés Celsius à 1500 degrés Celsius, avec une uniformité de chauffage qui maintient la différence de température entre les plaquettes adjacentes à moins de ± 4 degrés Celsius. Le silencieux-souffleur fournit un flux laminaire de gaz pour assurer une diffusion uniforme à travers la plaquette à travers son volume d'air réglable de 100-180 mL/min. Un seul panneau de commande, configuré avec des packs d'unités TEL et JEOL, est intégré à l'unité pour fournir aux utilisateurs un contrôle précis de la température en temps réel. Le panneau de contrôle est également programmé avec huit recettes préétablies pour les processus de dépôt de film afin d'assurer un contrôle uniforme du processus. La machine à gaz innovante de TOKYO ELECTRON APT-2800 facilite non seulement le dépôt précis de films sur des plaquettes, mais contribue également à réduire la quantité de déchets de dépôt. Sa capacité de stockage de 400 cylindres est capable de contenir jusqu'à 500 sccm de gaz pour une utilisation dans les processus de dépôt, et sa fonction de réglage du débit de gaz à réponse rapide fournit aux utilisateurs un contrôle complet du processus. APT-2800 est conçu en tenant compte de la sécurité de ses utilisateurs, et un large éventail de caractéristiques de sécurité intégrées sont intégrées dans le paquet. Ces caractéristiques comprennent des capteurs de matériaux aéroportés, des moniteurs électroniques de température, des alarmes de niveau un et un outil automatisé de mise hors tension pour prévenir les pannes d'actifs. En résumé, TEL/TOKYO ELECTRON APT-2800 est un four à diffusion avancée et un ensemble d'accessoires conçu pour répondre aux besoins des procédés de fabrication de semi-conducteurs tout en offrant aux utilisateurs une facilité d'utilisation et une atmosphère sécurisée. Le boîtier est équipé d'un modèle de contrôle de l'équilibre électro-thermique précis, d'un ventilateur de soufflage efficace et d'un équipement de gaz innovant pour des processus de dépôt de film uniformes. Il est également conçu avec une gamme de caractéristiques de sécurité pour assurer la sécurité de ses utilisateurs.
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