Occasion TEL / TOKYO ELECTRON FORMULA High-K #9290897 à vendre en France
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TEL/TOKYO ELECTRON FORMULA High-K est un four de diffusion et les accessoires associés de TEL qui fournit un processus de diffusion haute densité et haute performance. TEL FORMULA High-K est idéal pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs, offrant une homogénéité, une précision et une répétabilité supérieures. Utilisant le contrôle détaillé des procédés, TOKYO ELECTRON FORMULA High-K est adapté à des applications spécifiques de traitement des appareils, telles que le recuit, la jonction, l'activation et l'oxydation latérale. Pour les applications thermiques ou rapides de recuit thermique (RTA), FORMULA High-K offre une uniformité et une stabilité supérieures. Avec une large plage de température et un contrôle de température précis, la température de la plaquette/haute-K peut être effectuée efficacement avec peu d'écart d'une pièce à l'autre. L'algorithme de contrôle permet un contrôle précis de la température sur des processus courts et longs, permettant une large gamme de paramètres de processus thermiques. TEL/TOKYO ELECTRON FORMULA High-K dispose également d'une unité d'injection directe de gaz, éliminant les erreurs potentielles entre la pression différentielle, le débit massique et la vitesse du moteur. Cette machine à entraînement direct offre également un outil d'échappement robuste et propre. L'actif d'injection directe réduit les temps d'arrêt dus à la maintenance et améliore l'uniformité du processus. Le modèle d'échappement utilise un diffuseur pour maximiser l'efficacité, assurant une distribution uniforme des gaz sur toute la surface de la plaquette, même à des niveaux de pression élevés. Un large éventail d'accessoires sont disponibles avec TEL FORMULA High-K afin de répondre aux besoins spécifiques de traitement des appareils. L'équipement est disponible avec différents types de refroidisseurs et de chauffages pour un contrôle thermique efficace et l'uniformité des processus, ainsi qu'une grille électrique interne pour la température et le débit réglable. En outre, des outils d'accompagnement tels qu'une vanne de grille, des thermistors d'oxydation et des régulateurs de pression/débit offrent une solution complète pour le traitement moderne des dispositifs. Bref, TOKYO ELECTRON FORMULA High-K permet de contrôler étroitement les processus de diffusion du début à la fin. Ce système permet un traitement de diffusion haute densité et haute performance des semi-conducteurs, offrant une gamme de caractéristiques souhaitables telles que le contrôle précis de la température, l'injection directe de gaz d'entraînement et une unité d'échappement robuste. En plus de cela, une large gamme d'accessoires optionnels fournissent un contrôle et une précision supplémentaires pour les besoins spécifiques de traitement de l'appareil, assurant des résultats optimaux dans la fabrication de l'appareil.
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