Occasion TEL / TOKYO ELECTRON IW-6C #9280805 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON IW-6C est un four de diffusion de pointe utilisé pour le dépôt de films métalliques sur des substrats. Ce produit est utilisé pour un large éventail d'applications, de la modification de surface au dépôt de films dans diverses industries. TEL IW-6C est équipé d'une chambre de traitement qui est conçue avec un accent particulier pour fournir une excellente uniformité de température et de débit de gaz à l'intérieur de la chambre. Ceci le rend parfait pour le dépôt de films métalliques uniformes sur le substrat. TOKYO ELECTRON IW 6C est équipé de technologies de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD) et de dépôt chimique en phase vapeur à haute pression (HPCVD). Cela permet à l'utilisateur d'effectuer une gamme de processus, ce qui le rend idéal pour un large éventail d'applications. Pour améliorer encore l'uniformité du dépôt des films, IW 6C dispose d'une vanne de régulation de débit de haute précision. Cette vanne est utilisée pour contrôler les flux de gaz de procédé pour assurer un débit uniforme, ce qui est essentiel pour le dépôt de film. La vanne de débit incorporée est également utile car elle assure la concentration précise du gaz et empêche le dépôt d'impuretés pouvant provoquer des défauts dans le film. TEL/TOKYO ELECTRON IW 6C dispose également d'une pompe mécanique très efficace qui aide à améliorer le débit. Cette pompe peut évacuer efficacement et rapidement les gaz résiduels de la chambre de procédé. Ce procédé assure que le processus de dépôt se déroule uniformément et améliore la durée de vie des matières premières. TOKYO ELECTRON IW-6C est livré avec plusieurs accessoires qui améliorent ses performances et sa fonctionnalité. Ces accessoires comprennent un système de contrôle automatisé du chauffage et un obturateur de sécurité automatisé pour protéger l'utilisateur contre les rayonnements directs. En outre, IW-6C comprend également un logiciel avancé qui facilite le contrôle complet des paramètres et peut être utilisé pour l'enregistrement et l'analyse automatisées des données. TEL IW 6C est idéal pour le dépôt fiable de couches minces de métal et d'autres matériaux sur des surfaces de substrat. Ce produit est parfait pour un large éventail d'applications et fournit une excellente uniformité de température, de débit de gaz et de dépôt de film qui le rend idéal pour une variété de procédés.