Occasion TEL / TOKYO ELECTRON IW-6D #293798924 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON IW-6D est un four de diffusion et un accessoire fabriqué par TEL. Il s'agit d'un four de haute efficacité et de haute qualité pour les traitements thermiques et les procédés de diffusion pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il a une plage de température de 200 ° C à 1400 ° C et peut être utilisé pour le recuit, le collage, le dépôt de SiGe, et la pénétration. Il dispose d'un four à cathode creuse TEL IW-6D, qui peut effectuer une réaction à haute température en douceur et avec précision avec une grande efficacité, permettant une manipulation transparente des systèmes complexes de processus de diffusion. TOKYO ELECTRON IW-6D peut traiter une grande variété de matériaux, tels que le silicium, le germanium et d'autres matériaux CVD, ainsi que des oxydes et des nitrures, et convient pour de petites à grandes séries de production. Il est conçu pour être très adaptable, permettant une large gamme de paramètres de processus et de contrôle de l'atmosphère. En plus, il a une large variété à la disposition d'accessoires, tels que le rouleau de derrière d'IW-6D, qui peut être utilisé pour précisément contrôler le chauffage et la diffusion d'échantillons avec de différents traitements de surface. TEL/TOKYO ELECTRON IW-6D dispose également d'une large gamme de fonctions pour augmenter la sécurité, y compris les alarmes de température, le verrouillage/arrêt d'urgence et le contrôle de la température. Il dispose également d'un système unique de purge des gaz pour réduire la formation d'oxyde sur les composants du four. Il est également équipé d'un système de contrôle actif de l'atmosphère d'azote, assurant le maintien de l'atmosphère désirée pendant le traitement. TEL IW-6D est une solution économique pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et la boulangerie de plaquettes. Il est conçu pour la fiabilité et offre un large éventail de caractéristiques pour améliorer la sécurité, la précision et l'efficacité. Il peut être utilisé pour diverses applications telles que le recuit, le collage, le dépôt CVD et la cuisson des plaquettes. C'est une solution idéale pour les systèmes de processus difficiles et complexes.