Occasion TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA 1-H #9206531 à vendre en France
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Vendu
ID: 9206531
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2003
Vertical LPCVD oxide furnace, 12"
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA 1-H est un four de diffusion et accessoire de la société de microfabrication TEL (TOKYO ELECTRON). Il s'agit d'un outil avancé de traitement thermique haute performance à l'échelle de la production, idéal pour des applications telles que le traitement thermique rapide, le recuit de diffusion et les procédés d'oxydation. Ses caractéristiques comprennent une conception robuste pour des conditions de traitement difficiles, une grande capacité de wafer (jusqu'à des cadres carrés de 4 pouces et des cadres ronds de 8 pouces), capacité de flux horizontal pour améliorer l'uniformité des plaquettes, capacité de traitement à basse pression et à haute température pour des débits de processus plus élevés, une fenêtre à quartz pour l'observation rapide et économique des plaquettes, et collecte et analyse des données du processus via l'interface de connexion PC (PCCI), ce qui en fait un four très flexible et fiable pour le traitement des semi-conducteurs. Le corps de four est construit en acier inoxydable de haute qualité, et est conçu pour non seulement protéger contre la température sur/sous les pousses, mais aussi pour aider lors des tâches de processus thermique rapide (RTP) en maintenant une répartition uniforme de la température dans l'ensemble de la plaquette. Ses plages de température pour l'oxydation (700 ° C à 850 ° C) et le traitement thermique rapide (800 ° C à 1600 ° C) sont particulièrement utiles pour la microfabrication avancée. De plus, le processeur de contrôle du débit de gaz, du débit de chauffage et du refroidissement des plaquettes a un algorithme réglable pour améliorer l'uniformité. Une autre caractéristique majeure de TEL TELFORMULA 1-H est son système de chauffage et de refroidissement basé sur le rapport, qui permet d'augmenter le débit en contrôlant les taux de chauffage et de refroidissement. En plus de cela, ce four est livré avec un Oxyde Uniformity Monitor (OUM), un contrôleur qui surveille l'épaisseur d'oxyde de chaque plaquette dans la chambre. Il est capable d'évaluer l'homogénéité du niveau du substrat, ce qui permet à l'utilisateur d'ajuster les paramètres du processus lorsque la plaquette est encore dans la chambre. Enfin, TOKYO ELECTRON TELFORMULA 1-H est livré avec une fenêtre en quartz, offrant une vue facile pour l'échantillonnage et l'observation des plaquettes. Comme le quartz est très résistant à la température et chimiquement inerte, il peut également être utilisé pour les processus de haute température et d'oxydation. TELFORMULA 1-H est un outil parfait pour tout processus semiconducteur. Avec sa conception robuste, sa grande capacité en plaquettes et son système de chauffage et de refroidissement basé sur le rapport, il s'agit de l'un des fours de diffusion les plus fiables et les plus performants disponibles sur le marché aujourd'hui.
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