Occasion TEL / TOKYO ELECTRON VCF-615S #141288 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON VCF-615S est un four de diffusion à tube vertical monocouche qui permet de créer des couches sur des substrats semi-conducteurs à haute température par oxydation thermique et diffusion. Il dispose d'une chambre en aluminium anodisé capable de manipuler des températures allant jusqu'à 1000 ° C et des pressions allant jusqu'à 600 Torr. L'appareil est également équipé d'un équipement d'auto-isolation à haut rendement TEL, conçu pour minimiser la résistivité thermique et la perte de chaleur. Une autre caractéristique de ce modèle est son système de chauffage rapide, capable de créer des couches d'une épaisseur pouvant atteindre 8 000 angströms en moins d'une heure. Le four de diffusion TEL VCF-615S contient une chambre principale de traitement des substrats, un mécanisme de refroidissement de la chambre principale et un mécanisme de refroidissement de la tige d'anode. La chambre principale est un tube vertical de diffusion en acier inoxydable qui a un diamètre de 6 « et une hauteur de 24 ». Le four à haute température est chauffé par un réchauffeur à courant continu, et une tige d'anode a été ajoutée pour permettre une vitesse et une température de chauffage uniformes. De l'hydrogène chauffé est introduit dans la chambre principale, et la température est contrôlée en faisant varier le débit d'hydrogène chauffé. Une variété d'accessoires sont disponibles avec le four de diffusion TOKYO ELECTRON VCF 615S, y compris une unité de surveillance de la température et des dispositifs de contrôle de la pression supérieure tels qu'un manomètre et un manomètre. La machine de contrôle de la température permet des mesures de température précises à tout moment, tandis que les accessoires de contrôle de pression plus élevés permettent des vitesses de dépôt précises en permettant à l'utilisateur de contrôler à la fois la température et la pression. En plus de ces traits, VCF 615S la chaudière de diffusion a été conçue avec un trait de sécurité supplémentaire qui peut prévenir l'oxydation dans la chambre principale si la pression tombe trop bas. Pour ce faire, on introduit de l'azote dans la chambre et on contrôle la pression à l'aide d'un manomètre. Ce four de diffusion peut être utilisé pour une variété de procédés tels que l'oxydation des plaquettes de silicium, la croissance des cristaux, la réduction des défauts, le traitement des médicaments de source et de drain et d'autres procédés connexes. VCF-615S four de diffusion est un outil efficace et fiable pour créer des couches de haute qualité sur les substrats semi-conducteurs. La polyvalence de ce modèle et son outil de chauffage rapide en font un choix idéal pour une variété d'applications. En outre, la fonction de sécurité, l'actif de surveillance de la température et les accessoires de contrôle de pression font de ce modèle un choix sûr et efficace pour créer des couches avec des tolérances serrées et des résultats précis.