Occasion THERMCO 5200 #9076495 à vendre en France
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ID: 9076495
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1995
Diffusion furnace / LPCVD, 6"
(2) Tubes: Gate oxide
(1) Tube: Oxide
(1) Tube: poly LPCVD
Four tubes with semi-auto boat loader
Laminar flow and gas cabinet
High temperature element with 40’’ flat zone
Tube1: Poly (SiH4,N2O HCL,N2)
Tube2: Poly (SiH4,N2O HCL,N2)
Tube3: Poly (SiH4,N2O HCL,N2)
Tube4: Poly (SiH4,N2O HCL,N2)
1995 vintage.
THERMCO 5200 Diffusion Four est une solution puissante et fiable pour le traitement thermique des substrats semi-conducteurs. Ce four de type batch est spécialement conçu pour le traitement thermique tel que le dopage, la nitridation, l'oxydation, l'oxydation thermique et le recuit. Le four comprend un système d'entraînement, un régulateur de température et des éléments chauffants. Le four a une température maximale de 1200 ° C et peut fonctionner jusqu'à une pression de 200 millibar. Il offre un taux impressionnant de chauffage et de refroidissement avec un profil de température uniforme sur la zone du substrat. La structure du four est conçue avec des matériaux de haute qualité et résistants à la chaleur, tandis que l'enveloppe extérieure est réalisée avec de l'acier enduit époxy conçu pour survivre même sous haute température et exposition à la pression. L'isolation haute résistance à la température ainsi que les joints en aluminium anodisé sur les portes de la chambre et d'autres équipements assurent une rétention thermique maximale et la sécurité. Les éléments chauffants sont en graphite avec une enveloppe en alliage de molybdène/tungstène, assurant uniformité et résistance. Le système de vide de 5200 est constitué d'une pompe à vide rotative et d'une pompe de diffusion avec une pompe de pré-vide. La pompe à vide rotative évacue la chambre de la pression atmosphérique jusqu'à 1 mbar. La pompe de pré-vide évacue la chambre de la pression atmosphérique à 20 mbar. La pompe de diffusion évacue la chambre de 20 mbar vers le bas à 10-8 mbar, tandis que la pompe getter maintient le vide même lorsque la chambre est fermée. THERMCO 5200 propose une multitude d'accessoires pour des opérations personnalisées spécifiques aux besoins de traitement de l'utilisateur. Il s'agit notamment de quartzwafers, de plates-formes de chargement manuelles et automatiques, de systèmes de contrôle du débit de gaz inerte, de capteurs de température et de diverses options de protection. Il est également livré avec un contrôleur de panneau tactile, qui permet le contrôle de chambre mains libres et la surveillance pendant le cycle de traitement. En résumé, 5200 Diffusion Four est une solution robuste et fiable pour le traitement thermique des substrats. Sa conception permet une répartition uniforme de la température et une haute précision du contrôle de la température, tandis que la porte de la chambre et d'autres équipements assurent une rétention thermique maximale. Il est adapté à un large éventail d'opérations de traitement thermique et sa configuration peut être adaptée aux besoins spécifiques de l'utilisateur.
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