Occasion ULVAC V10-100LC #9373107 à vendre en France

ULVAC V10-100LC est un four de diffusion et ses accessoires pour la fabrication de semi-conducteurs. C'est un outil utilisé, souvent en laboratoire, pour introduire des composés ou des dopants à la surface des semi-conducteurs afin d'en modifier les propriétés. V10-100LC est spécialement conçu pour le procédé de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD). Il s'agit d'un procédé dans lequel on utilise une réaction en phase gazeuse pour déposer un film mince sur la surface du matériau. ULVAC V10-100LC est un four de diffusion furtif horizontal, monobloc, capable de répondre aux exigences d'homogénéité des volumes importants. Il offre un contrôle précis de la température et de l'atmosphère avec une précision contrôlée par ordinateur. Il fournit également un débit élevé, une uniformité, une excellente répétabilité et peut être utilisé en boucle fermée ou en boucle ouverte, pour assurer une faible génération de particules. Les composants principaux de V10-100LC sont le bateau à quartz qui tient les plaquettes et la chambre à vide. Il est équipé d'une gamme de dispositifs de sécurité et d'éléments sensibles à la température pour éviter tout changement thermique indésirable. Le système comprend également un puissant élément chauffant et contrôleur, permettant un contrôle précis de la température avec une homogénéité souhaitable à travers la chambre. Il dispose également d'un contrôle thermique semi-automatique, qui peut être ajusté pour différents paramètres de processus tels que la pression, la température et le temps. ULVAC V10-100LC est conçu avec une variété de fonctionnalités de conception avancées ainsi. Ceux-ci comprennent des capteurs multi-points, le contrôle de processus en temps réel, la capacité de recette multiple, et une interface utilisateur avancée pour assurer un environnement facile à utiliser. V10-100LC est conçu avec un degré élevé de flexibilité pour répondre à diverses exigences de processus. ULVAC V10-100LC est un système fiable, efficace et facile à utiliser qui offre des performances supérieures pour la diffusion de dopants sur les surfaces semi-conductrices. Il produit des résultats très précis, offrant une excellente uniformité et répétabilité pour des applications à large gamme pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.