Occasion RUDOLPH AUTO EL II #293630320 à vendre en France

RUDOLPH AUTO EL II est un ellipsomètre numérique de haute précision conçu pour mesurer les propriétés des couches minces telles que l'épaisseur, l'anisotropie optique, l'indice de réfraction et le coefficient d'extinction, ainsi que le taux de dépôt. Il s'agit d'une technique d'analyse de surface non destructive et sans contact couramment utilisée dans la recherche et le développement de matériaux semi-conducteurs, de revêtements optiques et d'empilements à couches minces. AUTO EL II est un système autonome qui comprend un module optique commandé par ordinateur, un étage de manipulation d'échantillons, un monochromateur, un bras mécanique commandé par logiciel et un spectromètre. Avec le module optique léger et compact, RUDOLPH AUTO EL II a la capacité de détecter des structures de film ultrafin jusqu'à 2nm d'épaisseur. L'étape de manipulation de l'échantillon est capable de scanner automatiquement des échantillons avec une large gamme de tailles, y compris des substrats de grande surface (300mm), permettant des mesures sur plusieurs zones d'échantillon. Le monochromateur est équipé de filtres monochromatiques, permettant de mesurer à des longueurs d'onde allant de 190nm à 1000nm. Le bras mécanique à commande logicielle assure le positionnement correct du module optique par rapport à l'échantillon, tandis que le spectromètre est utilisé pour mesurer l'énergie réfléchie hors de la surface. AUTO EL II est facile à utiliser et l'interface utilisateur intuitive contrôlée par le logiciel aide à rationaliser la mesure des échantillons. Des paramètres tels que la longueur d'onde et l'orientation peuvent être programmés et affinés pour chaque échantillon. De plus, le logiciel permet aux utilisateurs de stocker les résultats des tests, d'ajuster les paramètres d'analyse, de créer des séquences de mesure personnalisées et d'utiliser un langage de script automatisé pour contrôler l'expérience. RUDOLPH AUTO EL II est un outil puissant et polyvalent pour l'analyse en couches minces. Avec son optique de haute précision, son fonctionnement piloté par logiciel et sa capacité de mesurer des couches minces jusqu'à 2nm d'épaisseur, cet ellipsomètre avancé est un choix idéal pour les chercheurs et les ingénieurs travaillant dans le domaine des films minces et des semi-conducteurs.