Occasion RUDOLPH NIR 3 #9109130 à vendre en France

RUDOLPH NIR 3 est un ellipsomètre spectroscopique avancé conçu pour mesurer avec précision les caractéristiques optiques des couches minces, des surfaces et des matériaux semi-conducteurs. Le système se compose de trois composants principaux : une tête optique, un module électronique et une interface informatique. La tête optique est composée d'un monochromateur, d'un étage d'échantillonnage, d'un polariseur et d'un analyseur, et d'un système de détection. Le monochromateur est un dispositif qui utilise des filtres et des réseaux pour créer une plage de longueur d'onde étroite de lumière visible. L'étage d'échantillonnage maintient l'échantillon et permet un réglage angulaire précis pour la mesure de polarisation. Le polariseur et l'analyseur sont des filtres optiques qui contrôlent la polarisation de la lumière. Le système de détection mesure les propriétés optiques de l'échantillon, telles que l'intensité et la direction de polarisation de la lumière sous différents angles. Le module électronique est chargé de contrôler l'étage d'échantillonnage, le polariseur et l'analyseur, ainsi que la plage de longueurs d'onde du monochromateur. Il reçoit des données de la tête optique et les envoie à l'interface informatique pour analyse. L'interface informatique est l'endroit où l'utilisateur établit et effectue les mesures. Il est connecté à la tête optique via une connexion USB ou Ethernet. L'utilisateur peut contrôler l'étage d'échantillon, le polariseur et l'analyseur, ainsi que la longueur de la gamme de longueurs d'onde. Le logiciel est conçu pour interpréter avec précision les paramètres optiques à partir des données reçues de la tête optique et générer des rapports sur les propriétés optiques de l'échantillon. RUDOLPH NIR-3 est un outil précieux pour la caractérisation des matériaux et peut fournir des mesures précises et cohérentes sur une grande variété de surfaces et de matériaux. Il est utilisé dans de nombreuses industries, telles que l'électronique, l'optique, les matériaux avancés et les semi-conducteurs. Elle est particulièrement utile pour mesurer l'épaisseur des couches minces et les propriétés optiques des matériaux semi-conducteurs.