Occasion ADVANCED VACUUM Vision 320 #293764890 à vendre en France

ID: 293764890
Taille de la plaquette: 10"
Style Vintage: 2017
Reactive Ion Etchers (RIE), 10" Turbo pump No primary vacuum pump No chiller 2017 vintage.
ADVANCED VACUUM Vision 320 est un équipement de pointe de graveur et asher qui utilise la technologie ADVANCED VACUUM pour fournir des processus de gravure et ashing précis et efficaces pour divers matériaux. Conçu pour la recherche et les applications industrielles, Vision 320 offre un haut niveau de contrôle et de polyvalence pour répondre aux demandes de diverses applications dans des domaines tels que la fabrication de semi-conducteurs, la fabrication de MEMS/NEMS et la science des matériaux. ADVANCED VACUUM Vision 320 dispose d'une chambre à vide sophistiquée avec des systèmes de pompage haute performance qui créent un environnement basse pression essentiel pour obtenir des processus de gravure et de cueillette uniformes et sans contamination. Le système est équipé d'une unité de distribution de gaz précise qui permet aux utilisateurs de contrôler les débits de divers gaz de processus avec une grande précision, permettant la personnalisation des recettes de gravure et de cueillette pour des matériaux et applications spécifiques. Une des caractéristiques clés de Vision 320 est sa machine de génération de plasma avancée, qui utilise une source d'énergie haute fréquence pour créer une décharge plasma stable et uniforme dans la chambre à vide. Ce plasma joue un rôle critique dans les processus de gravure et de cueillette en facilitant les réactions chimiques qui retirent le matériau de la surface du substrat ou les résidus propres du processus de gravure. ADVANCED VACUUM Vision 320 offre une large gamme de sources de plasma, y compris le plasma à couplage inductif (ICP), le plasma à couplage capacitif (CCP) et les sources de plasma hyperfréquence, permettant aux utilisateurs de choisir la configuration de plasma la plus appropriée pour leurs applications spécifiques. Ces sources de plasma peuvent être facilement intégrées à l'outil, offrant flexibilité et évolutivité pour de futures mises à niveau ou modifications. L'actif dispose de capacités avancées de surveillance et de contrôle des processus, y compris la surveillance en temps réel de paramètres clés du processus tels que la pression de la chambre, les débits de gaz, la puissance du plasma et la température du substrat. Les utilisateurs peuvent visualiser et analyser ces paramètres grâce à une interface utilisateur intuitive, ce qui leur permet d'optimiser les conditions de processus et d'assurer la reproductibilité et la cohérence des résultats de gravure et d'ashing. La vision 320 est équipée d'un modèle de manutention de substrat de pointe qui permet un positionnement et une rotation précis des substrats lors des processus de gravure et d'ashing. Cet équipement peut accueillir une variété de tailles de substrat et de matériaux, rendant ADVANCED VACUUM Vision 320 adapté à un large éventail d'applications dans les environnements de recherche et de production. En résumé, Vision 320 est un système de graveur et asher très avancé qui offre précision, contrôle et polyvalence pour une variété d'applications dans la fabrication de semi-conducteurs, la fabrication MEMS/NEMS, et la science des matériaux. Avec sa technologie ADVANCED VACUUM, ses systèmes de production de plasma, ses capacités de surveillance et de contrôle des processus et son unité de manipulation des substrats, ADVANCED VACUUM Vision 320 est un outil puissant pour les chercheurs et les ingénieurs qui cherchent à obtenir des processus de gravure et d'ashing précis et efficaces.
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