Occasion ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 601E #9267161 à vendre en France

ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER 601E est un instrument de gravure/assemblage avancé conçu pour la gravure de surfaces de silicium, de métaux et de matériaux semi-conducteurs. Cet etcher est équipé de capacités de haute vitesse, de haute précision et de haut débit, ce qui le rend idéal pour la recherche et le développement, le développement de produits avancés et les procédés de fabrication de haute qualité. ADIXEN 601E est principalement utilisé pour la gravure de dispositifs semi-conducteurs, à l'aide d'un procédé en trois étapes. Dans un premier temps, la plaquette est placée dans la chambre de gravure et exposée à un plasma de haute intensité. Le plasma est ensuite chauffé à une température allant jusqu'à 200 degrés Celsius afin d'éliminer la couche superficielle indésirable. Dans la deuxième étape, le processus de gravure commence, en utilisant un processus de gravure sur mesure pour graver les régions désirées dans les motifs et formes désirés. Enfin, lors de la troisième étape, la plaquette est lavée et nettoyée pour assurer l'élimination du produit résiduel. ALCATEL 601E dispose d'une large gamme de technologies de pointe pour fournir des performances optimales. Son équipement de contrôle de gravure de haute précision utilise un logiciel avancé pour assurer la précision du processus de gravure. La machine dispose d'un contrôle complet du processus incluant le contrôle de la température, le contrôle de la puissance du plasma et les paramètres du faisceau d'ions pour la gravure. En outre, l'etcher est équipé d'un système à haut débit, permettant une gravure rapide sur une large gamme de tailles de plaquettes. 601E présente des caractéristiques de sécurité sophistiquées, y compris une unité d'arrêt automatique qui garantit que la plaquette n'est endommagée à aucun moment du processus de gravure. Sa machine anti-incendie avancée offre un niveau de rassure supplémentaire pendant le processus de gravure. PFEIFFER 601E est capable de graver des motifs de haute précision avec des défauts faibles dans une variété de matériaux, y compris les métaux, les semi-conducteurs et le silicium. Les résultats de gravure présentent une excellente homogénéité, permettant la fabrication de composants de haute qualité et de haute précision. L'etcher est facile à utiliser et est très fiable, ce qui en fait un choix idéal pour un large éventail de processus de recherche et de développement.