Occasion ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER A601E #293633801 à vendre en France

ID: 293633801
Deep Reactive Ion Etcher (DRIE) 4" wafer chuck with LN2 cooling capability and helium wafer backpressure Process gas setup: He, SF6, C4F8, O2, Ar, CHF3 Bay Voltex water chiller (2) Alcatel roughing pumps 2021SD for loading chamber 2063 C2 for process chamber Known issues: LF5 RF power generator will not apply power.
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER A601E est un graveur/asher, utilisé pour graver rapidement et nettoyer les surfaces de dépôt. Cet outil est particulièrement utile lors des processus de dépôt, tels que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). ADIXEN A601E offre une combinaison unique de fonctions de gravure haute pression, de pré-nettoyage et de post-nettoyage dans une seule plate-forme intégrée. ALCATEL A601E comprend une chambre de gravure principale et plusieurs autres composants, dont une chambre de procédé sous vide, des composants de transfert et de transfert de substrat, une chambre de gravure de base, un moniteur de pression de gravure et une chambre de post-gravure. La chambre de gravure principale contient le support du substrat, la chambre de procédé et d'autres composants. La chambre de procédé, habituellement fermée et constituée d'une chambre intérieure et d'une chambre extérieure, contient du gaz de procédé inerte, du plasma chauffé et un bouclier corporel à la masse et/ou à couplage magnétique. Un distributeur de gaz près du sommet peut permettre la commutation de gaz de procédé à l'intérieur. Les composants de transfert et de transfert de substrat comprennent une navette de substrat, qui est reliée à la chambre de procédé. Il peut être utilisé pour transporter des substrats ou des morceaux de substrats à destination et en provenance de PFEIFFER A601E ; le transfert des substrats peut se faire à distance ou manuellement. La chambre de gravure de base maintient et mesure la température, la pression, la tension et la puissance du substrat pendant le processus de gravure. Cela peut aider à prévenir les dommages au substrat et assurer des résultats de gravure optimaux. Un moniteur de pression de gravure est également inclus ; il surveille la pression à l'intérieur de la chambre de gravure principale et la compare à une consigne prédéterminée. En outre, une chambre post-gravure est également incluse. Ceci est utilisé pour nettoyer le substrat une fois le processus de gravure terminé. Le nettoyage du substrat se fait souvent à l'aide d'un gaz à haute pression tel que l'azote ou l'argon, ce qui permet d'éliminer en toute sécurité tout résidu restant du processus de gravure. A601E graveur/asher est capable de fournir des taux de gravure élevés et des surfaces de dépôt propres dans une plate-forme unique et intégrée. Il offre un contrôle fiable de la pression, de la température et de la tension, ce qui en fait un choix idéal pour la gravure et le pré-nettoyage des surfaces de dépôt dans les processus PVD et CVD. Avec ses performances puissantes, son haut rendement et ses caractéristiques de sécurité, ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER A601E est un choix idéal pour graver et nettoyer les surfaces de dépôt.
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