Occasion ALPHA PLASMA ASTRO-CA100 #293774362 à vendre en France

ALPHA PLASMA ASTRO-CA100 est un outil de haute performance conçu pour le traitement de surface de précision dans la fabrication de semi-conducteurs et les applications de recherche. Cet équipement de pointe utilise la technologie plasma pour fournir un processus de gravure/cueillette hautement contrôlé et uniforme, crucial pour obtenir des résultats fiables et reproductibles dans la fabrication des dispositifs. ASTRO-CA100 dispose d'un design polyvalent et convivial, le rendant bien adapté à un large éventail de besoins de traitement des matériaux. L'empreinte compacte et l'interface intuitive du système facilitent le fonctionnement et la maintenance, ce qui permet aux opérateurs d'exécuter efficacement les tâches de développement et de production avec un minimum de temps d'arrêt. Au cœur de l'unité se trouve un générateur de plasma RF de haute puissance, capable de fournir une densité de plasma stable et réglable pour répondre à différents types de matériaux et exigences de processus. La source de plasma est complétée par une machine de distribution de gaz sophistiquée qui permet un contrôle précis des gaz de procédé, des débits et des mélanges pour adapter la chimie du plasma et la sélectivité des gravures/cendres. La chambre de l'outil est faite de matériaux de haute pureté pour minimiser la contamination et assurer des résultats de processus cohérents. Un mandrin à température contrôlée assure la stabilité thermique pendant le traitement, ce qui est essentiel pour obtenir une uniformité dans la profondeur de gravure/cendres et le profil à travers la surface du substrat. Le mandrin permet également le chauffage ou le refroidissement du substrat pour optimiser les conditions de processus pour des applications spécifiques. ALPHA PLASMA ASTRO-CA100 offre une gamme de recettes de processus et de paramètres pour répondre à diverses applications de gravure et de cendrage, telles que le décapage de photorésist, la gravure diélectrique, le retrait d'oxyde et la modification des matériaux. Les utilisateurs peuvent facilement personnaliser les conditions de processus, telles que la pression, la puissance, la composition du gaz et le temps de traitement, pour atteindre les taux de gravure/cendres désirés et la sélectivité d'élimination des matériaux. L'actif est équipé de capacités avancées de détection d'endpoint pour suivre l'avancement du processus en temps réel et mettre fin avec précision à l'étape de gravure/cendres lorsque l'endpoint désiré est atteint. Cette fonctionnalité assure un contrôle précis du processus et minimise la surgravure, ce qui peut entraîner des dommages au dispositif ou un rendement réduit. Outre ses caractéristiques de précision et de contrôle, ASTRO-CA100 privilégie la sécurité des utilisateurs et la durabilité environnementale. Le modèle est conçu avec des embouts de sécurité intégrés, des mécanismes d'épuration des gaz et des systèmes de gestion des gaz d'échappement pour prévenir l'exposition aux matières dangereuses et réduire les émissions dans l'environnement. Dans l'ensemble, ALPHA PLASMA ASTRO-CA100 représente une solution de pointe pour des applications de gravure et de cueillette de plasma de haute précision dans des environnements semi-conducteurs et de recherche. Avec sa conception innovante, ses performances fiables et ses fonctionnalités centrées sur l'utilisateur, cet équipement est un outil indispensable pour obtenir des résultats de haute qualité dans des processus avancés de fabrication d'appareils.