Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 8100 #293645356 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 8100 etcher/asher est un équipement conçu pour la gravure nanométrique à haute productivité et la cueillette de dispositifs semi-conducteurs. AMAT 8100 etcher/asher contient une chambre de traitement ColdWall™ capable de traiter des substrats jusqu'à 200mm de taille à des températures allant jusqu'à 300C. Le système utilise la technologie plasma à couplage inductif pour une gravure plus rapide et plus uniforme de divers matériaux. Cela permet des temps de cycle bien en dessous de 1 minute dans les tâches de cendrage et de gravure. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 8100 etcher/asher dispose également d'un mécanisme de transport double barillet pour le chargement et le déchargement automatisé des substrats. La conception de deux barils facilite le chargement et le déchargement plus rapides, et améliore la flexibilité pour exécuter plusieurs recettes. 8100 etcher/asher soutient des recettes de procédé et des gaz de gravure compatibles pour de nombreux matériaux couramment utilisés comme le silicium, la silice, l'aluminium, le tungstène, la diélectrique et plus encore. L'unité offre une gamme de variables physiques de contrôle de processus telles que la pression, la puissance du plasma et le débit de gaz de procédé, permettant la flexibilité de l'utilisateur dans la gravure. AMAT/APPLIED MATERIALS 8100 etcher/asher fournit également de puissantes capacités d'enregistrement et d'analyse de données, ainsi qu'une bibliothèque de recettes complète qui permet aux utilisateurs de créer, stocker et gérer des recettes personnalisées, accélérant la configuration et l'exécution des processus. AMAT 8100 etcher/asher est une machine idéale pour des applications telles que le remplissage, la gravure de trous de contact et l'enlèvement de revêtement antireflet. L'outil est conçu pour fournir une excellente répétabilité et performance des processus. La conception conviviale et la flexibilité le rendent adapté à un large éventail d'applications de processus, permettant aux utilisateurs d'atteindre une productivité maximale de gravure et d'ashing.