Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 8116 #9226745 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 8116 est un système de gravure et d'asher à plasma conçu pour une production de volume moyen à élevé. Il est capable de répondre aux besoins de gravure et d'ashing de plusieurs industries, y compris les applications semi-conductrices, microélectroniques et MEMS. Le système AMAT 8116 de gravure plasma et asher dispose d'une technologie avancée de gravure plasma et d'un nettoyage intégré des plaquettes descendantes, ce qui en fait un choix fiable et efficace de gravure plasma et asher pour les environnements de salle blanche. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 8116 dispose de chambres à vide individuelles capables chacune de traiter jusqu'à 8 plaquettes à la fois. Chaque chambre dispose de son propre contrôleur et source de vide, permettant une gravure indépendante de chaque plaquette. Cela permet aux systèmes de gravure et d'asher de gérer plusieurs lots à la fois avec différents paramètres de gravure, ce qui améliore le débit et la productivité. 8116 présente l'utilisation de la puissance RF pour la production de plasma, ainsi qu'une source à deux plasma pour empêcher les réflexions internes qui peuvent être causées par des conceptions de source unique. Il est capable de graver dans plusieurs gaz et peut produire une large gamme de vitesses de gravure et de sélectivités. La flexibilité d'AMAT/APPLIED MATERIALS 8116 lui permet d'être utilisé dans une variété d'applications industrielles critiques, y compris le traitement des matériaux, l'emballage au niveau des plaquettes et les procédés de fabrication avancés. AMAT 8116 dispose également d'un mécanisme de chargement de plaquettes ascendant et d'une pression de chambre dynamique qui permet un contrôle précis des processus de gravure. Ceci permet de l'utiliser dans la réalisation de structures délicates telles que des films d'oxyde de silicium et de nitrure, et pour la gravure de tranchées à haut rapport d'aspect. Sa capacité à effectuer des gravures sur plusieurs plaquettes en fait un outil important pour la production de semi-conducteurs. En outre, APPLIED MATERIALS 8116 comprend un processus unique de nettoyage in situ des plaquettes qui utilise un gaz de gravure pour nettoyer la chambre après chaque cycle. Cette caractéristique maintient la chambre propre et empêche la circulation des gaz pendant les opérations de gravure. Cela réduit le risque de contamination et assure la cohérence des processus de gravure sur plusieurs plaquettes. Cela ajoute à la qualité globale et à la fiabilité du processus de gravure. Dans l'ensemble, 8116 est un système de gravure et d'asher puissant et fiable conçu pour une production de volume moyen à élevé. Il est capable de manipuler simultanément jusqu'à 8 plaquettes et utilise une technologie de pointe pour assurer des processus de gravure cohérents et la propreté de la chambre. Sa flexibilité et ses caractéristiques de nettoyage in situ des plaquettes en font un outil essentiel dans l'industrie des semi-conducteurs et de nombreuses autres industries.