Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 8116 #9250130 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS 8116
ID: 9250130
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1993
Oxide etcher, 6" 1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS 8116 est un type de graveur/asher conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il s'agit d'un graveur/asher à plasma monobloc équipé de commandes hautement programmables et d'une grande homogénéité. AMAT 8116 est principalement utilisé dans la production de dispositifs à circuits intégrés (IC). MATÉRIAUX APPLIQUÉS 8116 utilise la puissance RF pour créer un plasma relativement basse température autour du dispositif qui sert ensuite à graver des couches de matériau. 8116 utilise une conception de chambre blindée métallique (MS) qui optimise l'uniformité du plasma en minimisant les fuites de puissance RF. La chambre utilise également des électrodes à plaques parallèles pour assurer une uniformité et une densité de plasma adaptée sur tout le diamètre de la plaquette. Cette caractéristique permet de fabriquer avec précision de petites zones isolées selon les spécifications les plus petites. AMAT/APPLIED MATERIALS 8116 dispose également de pompes mécaniques à ultra-haut vide (UHV) qui permettent le traitement de matériaux performants tels que Ge/Si et SiGe/Si. De plus, grâce à ses systèmes de distribution de gaz de grande précision, AMAT 8116 est capable d'atteindre les conditions de processus exactes nécessaires à des opérations de gravure précises telles que l'impulsions et la gravure de spin. D'autres caractéristiques avancées telles que la fente réglable et la hauteur de la tête de douche réglable permettent un contrôle précis de la géométrie et de l'uniformité de la gravure. APPLIED MATERIALS 8116 est prêt à jouer et offre des performances et une fiabilité supérieures. En utilisant la technologie des impulsions, il est possible d'atteindre des tailles de caractéristiques minimales de nanomètres et de sous-microns avec un débit élevé. 8116 est à base d'IGBT et est alimenté par une alimentation évolutive qui peut être ajustée pour un processus de gravure spécifique. Son excellente uniformité plasmatique, ses faibles coûts de fonctionnement et sa flexibilité en font un choix idéal pour la fabrication de dispositifs avancés.
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