Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 8300 #9261704 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 8300 Asher/Etcher est un outil de haute performance qui permet aux utilisateurs de produire rapidement des structures et des surfaces très précises pour de nombreuses applications. L'équipement possède une variété de caractéristiques conçues pour améliorer les performances, la polyvalence et la sécurité. AMAT 8300 Asher/Etcher est basé sur un générateur de radiofréquence ultra-haute fréquence (UHF-RF) à faible coût et monocouche et est capable de 1000 watts de puissance de chauffage. Il a une pression de travail de 10 - 500 mBar, et est programmable pour exécuter jusqu'à 12 recettes différentes simultanément. Le système est compatible avec les milieux de gravure du gaz et du liquide. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 8300 Asher/Etcher dispose d'une unité de mouvement d'axe XY de haute précision pour un dépôt de surface précis du substrat. Il a également une approche fine en z-axe qui permet un réglage facile de la hauteur de la couche. Il utilise également un réflectomètre interne haute fréquence indépendant pour fournir une rétroaction en temps réel sur la réflectivité du substrat. 8300 Asher/Etcher est conçu pour le développement de processus ainsi que la production de pièces moyennes à grandes. Il dispose d'une chambre isolée de 12 pouces, d'un grand espace pour le chargement dans de grands produits et d'un écran couleur tactile qui surveille les paramètres du processus plasma en temps réel. Il dispose également d'une porte en verre linéaire pour faciliter le chargement et le déchargement des substrats. AMAT/APPLIED MATERIALS 8300 Asher/Etcher intègre une machine de verrouillage de sécurité unique, conçue pour empêcher le fonctionnement accidentel, et un outil d'interruption automatique qui détecte les conditions dangereuses dans la chambre. Cet actif assure également la surveillance et le contrôle électroniques des paramètres du processus, assurant la production de pièces de haute qualité. AMAT 8300 Asher/Etcher peut être utilisé pour la gravure et la cueillette de substrats en matériaux divers, tels que des matériaux inorganiques, semi-conducteurs et à base de carbone. Il fournit un haut degré de contrôle du processus, permet des changements faciles de recette, et fournit un dépôt de surface précis. Ce modèle est un choix idéal pour de nombreuses applications de gravure et d'ashing.