Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 8300E #9177298 à vendre en France

ID: 9177298
Plasma etch chambers Part numbers: 0040-00367 0010-00141.
AMAT/APPLIED MATERIALS 8300E etcher/asher est un outil essentiel pour les applications de micromachinage de surface et de semi-conducteur. C'est un équipement de haute performance conçu pour les opérations de gravure et de cendrage avancées. AMAT 8300E offre un contrôle précis des paramètres de gravure et offre une large gamme de configurations de gaz de procédé et de recettes sélectionnables pour répondre aux besoins de l'installation de fabrication de microélectronique moderne. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 8300 E est équipé d'une chambre de procédé hybride rapide d'oxydation/diffusion thermique (HRTOD) avec un contrôle précis des paramètres du procédé tels que la température, la pression, le temps et le débit. La capacité unique d'utiliser à la fois le traitement thermique rapide (RTP) et les processus de dissociation chimique dans la même chambre fournit la plus haute qualité de gravure de plasma et les procédés de cendres disponibles. Il comprend également une plage de température de la chambre principale de 25 ° à 850 ° C, une fenêtre de vue en quartz, et un environnement de processus allant jusqu'à 20 mTorr. Ce système est également équipé d'une unité d'élimination des oxydes (ORS) pour l'élimination sécuritaire des résidus minéraux trouvés sur les substrats aluminosilicate et d'autres résidus laissés par les procédures de traitement précédentes. L'ORS dispose d'un injecteur de gaz intégré pour décomposer rapidement et éliminer les oxydes, les nitrures et les métaux des surfaces des films. AMAT 8300 E fournit un générateur RF à haut rendement pour le contrôle de gravure optimal (OEC) permettant une précision dans les paramètres de gravure et des résultats de processus améliorés. Cette machine dispose également d'une injection de gaz indépendante, permettant à l'utilisateur de sélectionner les paramètres idéaux pour différents processus de gravure et de les optimiser pour les résultats souhaités. En plus de la gravure et de l'ashing, APPLIED MATERIALS 8300E offre une gamme d'opérations après gravure pour une variété de matériaux, y compris le nettoyage post-plasma à l'aide d'un procédé à base d'hydrogène plasmatisé ou d'un procédé O2-based. AMAT/APPLIED MATERIALS 8300 E permet également d'éliminer les particules résiduelles des substrats traités sans avoir à les essuyer manuellement. 8300E est un outil très maniable, offrant une intégration facile dans les environnements de fabrication existants et capable de répondre aux exigences les plus strictes des dernières technologies avancées de traitement des semi-conducteurs.
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