Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 8330 #293619549 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 est un graveur ou asher qui utilise la technologie du dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma hyperfréquence (PECVD) pour déposer des films de divers oxydes et nitrures sur du silicium et d'autres substrats. AMAT 8330 offre une combinaison unique de capacité, d'uniformité de processus et de flexibilité pour former des films à toute épaisseur réalisable - de dixièmes d'angström à plusieurs centaines de nanomètres - permettant son utilisation pour une large gamme de fabrication de dispositifs et de circuits. APPLIED MATERIALS 8330 est conçu pour un dépôt contrôlé d'oxydes, de nitrures et d'autres couches minces de haute précision. Il possède une source de résonance cyclotron (ECR) hautement productive et assistée par ions. Les sources ECR fournissent des densités de puissance accrues et des taux de dépôt uniformes, permettant à 8330 de supporter simultanément plusieurs dépôts de films. AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 est équipé de deux bobines d'énergie (multi-source ECR technology) qui peuvent fournir jusqu'à 3,2 kW de puissance à chaque substrat simultanément, ce qui augmente considérablement le débit. AMAT 8330 comporte une configuration de dépôt variable à pression variable qui permet aux utilisateurs de façonner la surface du substrat avant le revêtement de couches minces. Cet équipement dispose également d'un contrôle optimisé du processus de gravure et de dépôt pour un dépôt de film optimal, l'uniformité et la vitesse. Sa chambre a réduit les espèces réactives de la paroi et le dépôt de particules de la chambre, ce qui améliore encore la répétabilité et l'uniformité des processus. Sur le plan de la gestion environnementale, APPLIED MATERIALS 8330 est conçu pour répondre à une variété de normes de conformité environnementale, y compris RoHS, REACH et SASO. Cet équipement est conçu pour fonctionner à des températures allant de 25 à 350 degrés Celsius, offrant un contrôle de température supérieur pour le dépôt de couches minces et pour maintenir l'uniformité. De plus, 8330 est intégré avec une gamme de fonctionnalités supplémentaires qui permettent aux utilisateurs de stocker leurs recettes de processus et d'augmenter la flexibilité du processus. Ce système est également compatible avec une variété de systèmes de conception assistée par ordinateur (CAO) et d'ingénierie assistée par ordinateur (CAO), y compris AutoCAD, et P&E, permettant aux utilisateurs d'accéder et de concevoir les recettes de processus. En conclusion, AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 est un système de gravure et de dépôt de haute performance capable de fournir une capacité supérieure de dépôt en couches minces, uniformité et contrôle. Son environnement contrôlé et sa puissante source ECR permettent un meilleur contrôle des processus, tandis que ses capacités multi-sources permettent des dépôts de films multiples en même temps. AMAT 8330 est également intégré avec une multitude de fonctionnalités pour assurer la conformité environnementale et la facilité d'utilisation.