Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 8330 #293762395 à vendre en France
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ID: 293762395
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2005
Etcher, 6"
Non-functional
Materials: Al, Mo, Ta, Ti, and indium tin oxide
Bell jar dome included
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 est un graveur/asher très avancé et sophistiqué utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le traitement de précision des plaquettes de silicium. Cet outil est conçu pour graver et nettoyer les plaquettes à l'échelle nanométrique pour obtenir des niveaux élevés de précision et de cohérence dans la fabrication des dispositifs semi-conducteurs. AMAT 8330 est équipé d'une technologie de pointe et de caractéristiques qui en font un outil polyvalent et fiable pour une large gamme d'applications de gravure et d'ashing. Il est connu pour son haut débit, son excellente uniformité de processus et son contrôle supérieur sur des paramètres tels que la vitesse de gravure, la sélectivité et le contrôle de profil. L'un des composants clés de APPLIED MATERIALS 8330 est la chambre de procédé, qui est conçue pour fournir un environnement contrôlé pour les processus de gravure et d'ashing. La chambre est construite à partir de matériaux de haute qualité résistant aux produits chimiques corrosifs et aux températures élevées, garantissant des performances fiables et une durabilité à long terme. La chambre est équipée de systèmes avancés de chauffage et de refroidissement pour maintenir une température constante pendant le traitement, ainsi que de systèmes de distribution de gaz pour un contrôle précis des gaz de procédé. 8330 dispose d'un équipement sophistiqué de génération de plasma qui est essentiel pour les processus de gravure et de cueillette. Le plasma est généré par l'application de la puissance radiofréquence (RF) à un mélange gazeux à l'intérieur de la chambre, conduisant à la formation d'ions réactifs et de radicaux qui interagissent avec la surface de la plaquette pour éliminer sélectivement le matériau. La puissance RF peut être ajustée pour contrôler la densité et l'énergie du plasma, permettant un réglage précis de la vitesse de gravure et de la sélectivité. L'outil est également équipé d'un système complet de distribution de gaz qui permet de contrôler avec précision les gaz de procédé tels que les agents de gravure à base de fluor et les gaz ashing à base d'oxygène. L'unité de distribution du gaz assure une répartition cohérente et uniforme des gaz sur la surface de la plaquette, d'où une grande homogénéité et reproductibilité des procédés. AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 fonctionne à l'aide d'une machine de commande avancée qui permet la surveillance et le réglage en temps réel des paramètres du processus. L'outil dispose d'une interface conviviale qui permet aux opérateurs de configurer et d'optimiser les recettes de processus rapidement et facilement. Les données du processus peuvent être enregistrées et analysées pour assurer la stabilité du processus et le contrôle de la qualité. En résumé, AMAT 8330 est un outil de pointe de graveur/asher qui offre de hautes performances, fiabilité et polyvalence pour les applications de fabrication de semi-conducteurs. Sa technologie de pointe, ses systèmes de contrôle de précision et sa conception robuste en font un outil essentiel pour réaliser des dispositifs semi-conducteurs de haute qualité et à haut rendement.
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