Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 8330 #9068913 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 Asher/Etcher est un outil de gravure de plasma chimique sèche à haute vitesse utilisé pour le traitement de substrats d'appareils et d'autres composants. AMAT 8330 Asher/Etcher fournit un procédé de gravure précisément contrôlé utilisant un design de chambre avancé. Cet etcher assure un environnement de traitement propre grâce à l'utilisation d'un design de chambre étanche innovant. Ce MODÈLE DE MATÉRIAUX APPLIQUÉS 8330 est une machine de gravure à base chimique qui est équipée d'une source de plasma haut de gamme. Cette source de plasma permet à l'graveur de traiter des substrats à des vitesses élevées, avec précision et précision. Il est conçu avec un certain nombre de fonctionnalités avancées telles que des fonctions d'auto-ajustement, d'auto-alignement et de contournage, ce qui permet à l'utilisateur de surveiller les conditions de processus dans une variété de scénarios, tels que la réparation in situ et le contrôle de la contamination. 8330 Etcher/Asher est capable de traiter des substrats avec une gamme d'épaisseurs et de matériaux. La machine intègre un générateur de plasma RF unique, ainsi qu'une chambre à interface quartz qui crée un flux plasma intense qui interagit avec un matériau de substrat. Cette combinaison permet à l'utilisateur de contrôler les paramètres nécessaires à la gravure haute résolution. La machine est capable de manipuler une variété de procédés tels que la gravure anisotrope, la gravure planaire, la gravure profonde et la gravure par masque d'ombre. La machine est également capable de manipuler des procédés tels que le retrait de couche résistive. AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 Asher/Etcher peut également être utilisé pour des applications avancées de broyage ionique telles que la gravure ionique réactive (RIE) et l'implantation. AMAT 8330 Etcher/Asher permet également aux utilisateurs de réaliser des processus humides. Il est équipé d'un bain acide et d'un pulvérisateur à jet d'eau pour le bon nettoyage des substrats. La chambre de gravure est conçue pour une sécurité maximale, l'efficacité et le contrôle de la qualité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 8330 Etcher/Asher est construit avec une conception de chambre étanche pour assurer une contamination minimale des particules. La conception étanche de la chambre à vide permet également aux utilisateurs de graver dans des conditions de processus hautement reproductibles. L'etcher est intégré à un système d'affichage numérique et de contrôle de pression pour fournir des paramètres précis de surveillance du processus. Le système est également équipé d'une cryopump avant pour maintenir la température de la chambre de gravure stable. 8330 Asher/Etcher est un outil de gravure fiable et précis qui assure un traitement précis du substrat. La machine est capable de gérer une grande variété de processus, et ses fonctionnalités avancées permettent aux utilisateurs d'obtenir des résultats de gravure haute résolution. La conception robuste de la chambre scellée de ce système garantit un environnement propre, cohérent et répétable pour chaque projet de gravure.