Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 8330 #9070196 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 etcher est un système de gravure à faisceau d'ions à grappes de gaz (GCIB) qui fonctionne à basse température. Cet équipement de pointe est spécialement conçu pour les processus de gravure plasma à haut débit et permet un contrôle supérieur sur la configuration de gravure pour permettre une variété d'applications. Par rapport à d'autres technologies de gravure, le GCIB offre un meilleur contrôle du profil de bord, une charge moindre, une propreté améliorée, une uniformité améliorée, des dommages réduits et une gravure plus efficace. AMAT 8330 etcher dispose d'une chambre de processus de 400 mm et est équipé d'un ascenseur macro automatisé pour une charge et un déchargement faciles. Sa puissance RF de 1300 watts assure des débits plus élevés et un contrôle de profil précis lors de la gravure. Le graveur utilise un large éventail de gaz, tels que l'oxygène, le chlore, le CF4 et le CHF3, pour divers procédés de gravure ionique réactive (RIE). Les paramètres du processus peuvent être ajustés avec précision, comme la concentration du gaz, la pression, le débit, la puissance RF et la tension de polarisation. En raison de ses capacités de procédé polyvalentes, APPLIED MATERIALS 8330 etcher peut être utilisé pour graver différents matériaux, tels que le silicium, les silicures, le polyimide, etc.. Cet équipement de pointe est idéal pour des applications dans la fabrication de semi-conducteurs, tels que les interconnexions de puces, et les circuits intégrés compliqués. Il convient également à la gravure de matériaux avancés tels que le SiGe cristallin, le composé III-V, le SiNx et les dispositifs à base de nitrure. 8330 etcher est livré avec une interface utilisateur graphique conviviale qui permet un suivi et un ajustement facile du processus. Il comprend également un système de nettoyage in situ qui permet de maintenir un degré élevé de propreté entre les étapes du processus. Il en résulte une réduction des temps d'arrêt et une amélioration de la stabilité et de la répétabilité du procédé. L'etcher est également équipé de capacités de surveillance prédictive pour fournir une analyse en temps réel du processus de gravure, assurant un bon fonctionnement et un confort d'utilisation maximal. En conclusion, AMAT/APPLIED MATERIALS 8330 etcher est un équipement de pointe conçu pour les procédés de gravure dans l'industrie de la technologie des semi-conducteurs. Ce graveur basse température offre des performances, une répétabilité et une efficacité supérieures lors du traitement d'une large gamme de matériaux. Son interface conviviale, son système de nettoyage in situ et ses capacités de surveillance prédictive permettent un bon fonctionnement et une répétabilité optimale. Ainsi, AMAT 8330 etcher fournit une solution efficace pour divers procédés de gravure de plasma.