Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centris SYM3 #293627020 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 293627020
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2019
Metal etcher, 12"
(4) Load ports
Chambers:
Chamber A1: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber A2: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber B1: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber B2: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber C1: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber C2: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Gas lines:
Line1, 2, 4, 12, 13: MFC
Line3: Cl2, 400 SCCM
Line4: MFC
Line5: HBr, 400 SCCM
Line6: SiCl4, 120 SCCM
Line7: SF6, 100 SCCM
Line8: O2, 60 SCCM
Line9: BCl3, 300 SCCM
Line10: CH2F2, 40 SCCM
Line11: SO2, 200 SCCM
Line14: NF3, 500 SCCM
Line15: CHF3, 300 SCCM
Line16: CF4, 300 SCCM
Line17: He, 500 SCCM
Line18: O2, 700 SCCM
Line19: Ar, 1000 SCCM
Line20: N2, 50 SCCM
Does not include:
Chiller
Dry pump
Power supply: 208 V AC, 3 Phase
2019 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centris SYM3 est un équipement avancé de gravure/cendres conçu pour produire des structures et des motifs supérieurs sur divers substrats enregistrés sur des supports. Le système est construit sur une architecture avancée et hautement capable qui exploite la flexibilité de l'actionnement économique et la vitesse des systèmes électromécaniques. Cette unité peut traiter des tailles de substrat jusqu'à 8 "de diamètre et a des capacités de contrôle des gaz pour plus de 10 gaz, permettant une gamme de procédés tels que la gravure profonde du silicium, la gravure plasma haute densité, l'élimination de la résistance et le dénudage différentiel. La machine est également de nature très modulaire, permettant aux utilisateurs de configurer l'outil pour produire des structures et des motifs personnalisés complexes. AMAT Centris SYM3 dispose d'un mécanisme de transfert d'image haute résolution couplé à un atout auto-focus hautement capable, permettant une répétabilité et un rendement de processus supérieurs. Le modèle offre également une variété de protocoles de sécurité de pointe pour minimiser le risque de défaillance de l'équipement en raison de la contamination ou d'autres problèmes opérationnels. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centris SYM3 est équipé d'un système de contrôle des processus en boucle fermée qui équilibre les débits et la pression afin de maximiser les performances des processus. Cette unité utilise un logiciel propriétaire pour automatiser le contrôle et la surveillance des recettes, ainsi que fournir une représentation graphique des processus de gravure pour aider les opérateurs à comprendre et optimiser le processus. La technologie permet de multiples recettes de processus de gravure/cendres à la volée sans arrêter le processus actuel et le rechargement, augmentant le débit et la répétabilité. Centris SYM3 est une machine de gravure puissante idéale pour une gamme d'applications. Les spécifications ouvertes de l'outil offrent un haut degré de flexibilité, permettant de configurer l'actif pour s'adapter au mieux à un environnement d'exploitation. Son modèle d'imagerie de haute qualité et de contrôle des processus en boucle fermée contribue à améliorer le rendement et la répétabilité, permettant aux utilisateurs d'obtenir de meilleurs résultats avec moins de temps et d'efforts.
Il n'y a pas encore de critiques