Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centris SYM3 #293828331 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centris SYM3, également connu sous le nom d'un graveur/asher, est un équipement de traitement du plasma de pointe utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs pour les processus de gravure et d'ashing. Cet outil est conçu pour fournir une grande précision et uniformité dans les processus d'enlèvement et de nettoyage de matériaux sur des plaquettes de silicium utilisées pour la fabrication de circuits intégrés. Le système AMAT Centris SYM3 est une plate-forme très avancée qui intègre une gamme de technologies sophistiquées pour obtenir un contrôle précis des processus de gravure et d'ashing du plasma. Il est doté d'une conception à double chambre qui permet un traitement plasma séparé et des opérations de chargement/déchargement, assurant un débit efficace et minimisant les temps d'arrêt pendant le traitement des plaquettes. Un des composants clés de l'unité Centris SYM3 MATÉRIAUX APPLIQUÉS est la source de plasma, qui génère le plasma nécessaire aux processus d'enlèvement et de nettoyage des matériaux. La source de plasma de cette machine est conçue pour délivrer du plasma de haute densité et uniforme sur toute la surface de la plaquette, permettant une gravure précise et un cendrage avec une variation latérale minimale. Il en résulte un contrôle et une uniformité des processus supérieurs, essentiels pour garantir la qualité et la fiabilité des dispositifs semi-conducteurs. L'outil Centris SYM3 est équipé de capacités avancées de surveillance et de contrôle des processus qui permettent d'ajuster en temps réel les paramètres des processus pour optimiser les performances et garantir des résultats cohérents. Il est intégré à une gamme de capteurs et de dispositifs de surveillance qui fournissent une rétroaction sur les conditions du processus, permettant aux opérateurs de prendre des décisions éclairées pour améliorer la stabilité et la répétabilité du processus. En termes de performance, AMAT/APPLIED MATERIALS Centris SYM3 offre des taux de gravure et d'asher élevés, permettant un traitement rapide et efficace des plaquettes de silicium. Il offre un contrôle précis des taux d'enlèvement des matériaux, de la sélectivité et du contrôle des profils, permettant la personnalisation des processus de gravure et de cendres pour répondre aux exigences spécifiques des différentes structures et matériaux des appareils. Le modèle intègre également des systèmes avancés de distribution et de mélange de gaz, permettant un contrôle précis de la composition et du débit des gaz de procédé lors des processus de gravure et de cendres. Cela garantit des conditions de processus optimales et une uniformité sur l'ensemble de la plaquette, ce qui donne des résultats de haute qualité et reproductibles. L'équipement AMAT Centris SYM3 est conçu avec un accent sur la fiabilité et la facilité d'entretien, avec des composants robustes et une interface conviviale pour un fonctionnement simplifié. Il est équipé de dispositifs de sécurité avancés pour protéger les opérateurs et maintenir un environnement de travail propre, assurant le respect des normes et réglementations de l'industrie. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centris SYM3 est un système de graveur/asher polyvalent et hautement capable qui offre des capacités de traitement plasma avancées pour la fabrication de semi-conducteurs. Avec sa grande précision, son homogénéité et son efficacité, cet outil est idéal pour une large gamme d'applications dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés.