Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centris SYM3Y Poly #293625534 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centris SYM3Y Poly Etcher/Asher est un équipement conçu pour fournir des processus de gravure et de cueillette de haute précision. Ce système utilise la gravure ionique réactive (RIE) et la gravure par plasma inductif (ICP) pour obtenir des résultats de haute qualité avec une température extrêmement basse et des dommages minimaux à l'échantillon. La technique de gravure ICP peut être utilisée pour diverses applications, telles que la gravure par ions réactifs profonds (DRIE), la création de surfaces structurées ou la gravure de structures en substrats. Il combine des taux de gravure élevés, une excellente sélectivité de gravure, et un bon facteur de remplissage pour assurer des motifs de haute précision et des profondeurs de gravure. De plus, l'unité est équipée d'un asher de buse coaxial, fournissant un processus de cendrage uniforme à basse température qui évite les dommages aux échantillons. AMAT Centris SYM3Y Poly Etcher/Asher exploite un contrôleur et une suite logicielle innovants qui permettent d'affiner les paramètres de gravure et d'ashing, y compris la profondeur de gravure et la composition des réactifs, la pression et le débit, la polarisation du substrat et les niveaux de puissance, et le temps de gravure. Le contrôleur dispose également de verrous de processus embarqués, ce qui permet à l'opérateur de régler une pression et un débit maximums pour éviter les dommages aux échantillons. L'interface utilisateur est intuitive et conviviale, permettant une programmation rapide des paramètres ainsi que des rapports et de l'enregistrement des données. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centris SYM3Y Poly Etcher/Asher offre une excellente uniformité de température dans toute la chambre de gravure et de cueillette, assurant des résultats cohérents quelle que soit la taille du substrat. La machine est conçue pour réduire le temps de contamination et de refroidissement et est compatible avec une variété de gaz de procédé, y compris les espèces à base de fluor, de chlore et d'azote. Il utilise également une technologie de confinement propriétaire avec un rayon de 200 mm et plusieurs cellules de confinement pour s'assurer que les produits chimiques de gravure et de cendrage sont contenus, ce qui entraîne une réduction des coûts de traitement. En outre, l'outil comprend des dispositifs de sécurité définis par l'utilisateur, réduisant le risque d'exposition chimique accidentelle. Dans l'ensemble, Centris SYM3Y Poly Etcher/Asher est un atout innovant qui offre des capacités de gravure et de cueillette robustes pour un large éventail d'applications. Il combine un contrôleur et une suite logicielle sophistiqués et conviviaux avec un modèle de chambre et de confinement innovant, offrant des résultats supérieurs avec des temps de contamination et de refroidissement réduits.