Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Gate stack #9289806 à vendre en France
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Vendu
ID: 9289806
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2010
Decoupled Plasma Nitride, 12"
(2) Load ports
Chambers A/B: DPN+
Chambers C/D: RTP Radiance
Power supply: 110 AC, 3 Phase
2010 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Gate stack est un graveur/asher pour le traitement d'une grande variété de substrats utilisés dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. L'etcher est conçu pour fournir des profondeurs de gravure et des processus très uniformes par gravure plasma dopante sélective, utilisant la chimie à base de fluorine et de chlore. Il est capable d'offrir un contrôle supérieur sur le processus de gravure, ainsi que des taux élevés d'élimination des matériaux. Ce graveur est doté d'un système de gravure à plasma couplé à basse pression et basse énergie, avec un contrôle précis des réactifs pour assurer une excellente uniformité et sélectivité des gravures sur différents types de matériaux. Cet graveur permet également un excellent contrôle des conditions de la chambre de gravure telles que la pression, la distribution de gaz et la puissance du plasma. Avec ses paramètres de contrôle avancés, le système offre une performance de gravure constante avec des surfaces gravées propres et une profondeur uniforme et une douceur de flanc. La pile AMAT Centura ACP DPN Gate utilise une technologie brevetée Dual Particle Neutralizer (DPN) pour fournir des tensions de polarisation élevées à des fréquences très élevées sans endommager les matériaux du substrat. La technologie DPN minimise également les niveaux de contamination par l'arsenic en éliminant le besoin de processus de cendrage traditionnels. Le procédé DPN convient également à une gamme de substrats tels que le silicium polycristallin, l'aluminium, le dioxyde de silicium et l'arséniure de gallium. En outre, le graveur est équipé de technologies de vide améliorées qui fournissent un environnement de gravure propre qui réduit les temps de nettoyage après gravure tout en maintenant la qualité de la gravure. L'etcher permet également de contrôler avec précision le profil de pression, ce qui évite d'endommager les piles de grille. L'etcher offre également un contrôle dynamique du gaz et des temps de commutation ultra-rapides qui permettent une large fenêtre de processus. De plus, les torches à distance spécialisées assurent un contrôle précis de l'uniformité, même dans les zones difficiles à graver. Enfin, MATÉRIAUX APPLIQUÉS La pile DPN Gate Centura ACP offre également des dispositifs de sécurité tels que des écrans de protection anti-réflectifs et diffusants pour la chambre de gravure. Grâce à ses paramètres de contrôle précis et ses caractéristiques de sécurité avancées, cet graveur peut fournir des gravures de haute précision tout en minimisant les risques d'endommagement du substrat.
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