Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Plus Gate Stack #9383657 à vendre en France

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ID: 9383657
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2010
Decoupled plasma nitride deposition system, 12" DRAM Gate nitridation system (4) Facet mainframes (2) D746 DPN Plus R741 RTP Radiance RP chamber DPN Plus chamber options: Generator Enhanced pulsed RF RTP radiance chamber Technology option Open loop tuner Process application PNA DPN Plus gas delivery options: He 500 SCCM N2 500 SCCM RTP Gas panel options: (10) Regulators and display Factory interface options Configurable colored light Operator access switch TIRIS With RF E99 Carrier ID Light curtain Docking flange shield Single axis aligner Remote Options: Flat panel monitor, 17" Non standard request O-Ring type CHEMRAZ chamber C & D RTP ACP Block II gas panel NSR Celerity 2010 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Plus Gate Stack est un Etcher/Asher haute performance et haute précision pour le traitement des sous-microns. Il est équipé de la technologie Direct Plasma Naming (DPN), permettant une gravure sélective précise et la cueillette des caractéristiques de 0,3 µm 2/3 pas jusqu'à 0,12 µm 1/2 pas et double balisage à 0,09 µm 1/4 pas pour le développement. L'Etcher/Asher est également compatible avec une variété de substrats tels que le silicium, les semi-conducteurs et les oxydes métalliques. AMAT Centura ACP DPN Plus Gate Stack offre une gamme d'options pour contrôler le processus de gravure/ashing. Il s'agit notamment du niveau de sélectivité et de résistance à la présence sur la plaquette, de la fixation des conditions de gravure appropriées, du contrôle de la pression de gravure, de la durée de gravure, de la vitesse de gravure et du point d'extrémité rapidement et avec précision. Il permet également à l'utilisateur d'ajuster l'efficacité du processus, d'optimiser le débit et de minimiser les effets de bord. En outre, le système peut être utilisé pour graver plusieurs matériaux non sélectifs tels que l'oxyde de silicium, le nitrure d'oxyde de silicium et l'oxyde d'aluminium. Le système offre également une interface utilisateur graphique conviviale et intuitive qui facilite la mise en place et le suivi du processus par les opérateurs. Le Etcher/Asher peut être configuré avec une large gamme d'options matérielles et logicielles supplémentaires, telles qu'une tête de polissage et un Plasma Viewer. La suite temps réel intégrée fournit également un ensemble de données, comme des données de métrologie, ainsi que des informations de contrôle de processus, pour surveiller le processus sur une base wafer-by-wafer. En conclusion, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura ACP DPN Plus Gate Stack est un graveur/asher avancé, offrant des niveaux de précision pour même les exigences de processus les plus avancées. La combinaison optimale de paramètres de contrôle et de processus, la grande variété de matériaux compatibles, l'interface graphique intuitive et les puissants outils d'analyse de données font de Centura ACP DPN Plus Gate Stack une solution parfaite pour les industries nécessitant une précision de sous-microns.
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