Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP DPS AdvantEdge G2 Poly #9252462 à vendre en France

ID: 9252462
Polysilicon etcher.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS AdvantEdge G2 Poly est un graveur/asher de pointe conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. L'équipement est équipé d'une source de plasma Poly-Oxyde, qui permet une gravure et un ashing optimaux avec un gaz inerte ou semi-réactif. L'ashing est un processus important qui élimine les contaminants, tandis que la gravure est utilisée pour éliminer les matériaux indésirables ou pour façonner le silicium ou d'autres matériaux semi-conducteurs. AMAT Centura AP DPS AdvantEdge G2 Poly est équipé d'un système de surveillance Opti-Lab in-situ, qui fournit une rétroaction détaillée sur le processus de gravure et d'ashing, permettant d'affiner et d'améliorer le contrôle des processus. La puissance de la source, la pression de la chambre, le bouclier Faraday et d'autres paramètres sont mesurés en temps réel et peuvent être utilisés pour optimiser le processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura AP DPS AdvantEdge G2 Poly est équipé d'un grand nombre d'options pour les recettes de processus et la compatibilité des matériaux, permettant un débit élevé avec une variété de matériaux. De plus, l'unité est équipée d'une machine de régulation de température, qui permet un contrôle précis des niveaux de température et d'énergie lors des processus de gravure ou de cueillette. L'etcher/asher est compatible avec une large gamme d'alimentations, avec des niveaux de puissance allant jusqu'à 300 watts. L'outil est capable de fournir une précision d'un pour cent, permettant un contrôle précis du plasma et d'autres paramètres de processus. Le matériel de couchage intégré élimine la contamination potentielle et permet un contrôle précis de la puissance RF et de l'uniformité. Le modèle est également équipé d'une gamme d'outils de surveillance, tels que l'équipement de vision embarquée et les particules (PTM) et la spectroscopie à rayons X dispersive d'énergie électronique (EDX) pour fournir un contrôle et une rétroaction supplémentaires sur le processus de gravure et de cueillette. En outre, le Centura AP DPS AdvantEdge G2 Poly est facile à utiliser, sans entretien et très économique, ce qui le rend idéal pour la production de matériaux semi-conducteurs modernes d'aujourd'hui.
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