Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP DPS AdvantEdge G2 #293802356 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP DPS AdvantEdge G2
ID: 293802356
Metal etchers.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS AdvantEdge G2 est un équipement de pointe conçu et fabriqué par AMAT, l'un des principaux fournisseurs d'équipements de fabrication de semi-conducteurs dans le monde. Cet équipement de pointe fait partie de la plate-forme Centura, connue pour sa flexibilité, sa fiabilité et ses performances élevées dans le traitement des semi-conducteurs. AMAT Centura AP DPS AdvantEdge G2 offre une solution complète pour les processus de gravure et d'ashing plasma, étapes critiques dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. Ce système est spécialement conçu pour répondre aux exigences strictes de l'industrie des semi-conducteurs, permettant l'enlèvement précis des matériaux, le transfert de motifs et la modification de surface sur les substrats avec une grande précision et répétabilité. Les principales caractéristiques de MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura AP DPS AdvantEdge G2 comprennent une configuration polyvalente de source de plasma double (DPS), des capacités avancées de détection d'endpoint, un contrôle automatisé des processus et une interface conviviale pour faciliter le fonctionnement et l'analyse des données. La configuration DPS permet l'utilisation de deux sources de plasma différentes, permettant une plus large gamme de procédés chimiques et d'options d'accord pour obtenir des résultats optimaux de gravure et d'ashing sur divers matériaux et structures. L'unité est équipée d'outils sophistiqués de détection d'endpoint qui surveillent en temps réel l'avancement du processus de gravure ou d'ashing, assurant un contrôle précis de l'enlèvement des matériaux et une uniformité sur la surface du substrat. Cette caractéristique est essentielle pour obtenir des rendements et des performances élevées dans la fabrication de semi-conducteurs. En outre, Centura AP DPS AdvantEdge G2 intègre des algorithmes avancés de contrôle de processus qui permettent d'ajuster avec précision les paramètres de processus tels que les débits de gaz, la pression de chambre, la puissance RF et la température pour atteindre les taux de gravure ou de cendres désirés, la sélectivité et le contrôle de profil. Ce niveau de contrôle est essentiel pour répondre aux exigences strictes des technologies semi-conductrices avancées, telles que les FinFET, les NAND 3D et les dispositifs logiques et mémoire avancés. La machine est conçue avec extensibilité et flexibilité à l'esprit, permettant une intégration facile dans les lignes de fabrication de semi-conducteurs avec des exigences de production variées. Sa conception modulaire permet la personnalisation et la mise à niveau sur le terrain pour tenir compte de l'évolution des besoins des processus et des progrès technologiques dans l'industrie des semi-conducteurs. L'interface utilisateur d'AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS AdvantEdge G2 est intuitive et conviviale, offrant aux opérateurs un accès facile aux recettes de processus, à l'enregistrement des données, au diagnostic des outils et au calendrier de maintenance. L'actif supporte également les capacités de surveillance et de contrôle à distance, permettant une intégration sans faille dans un modèle d'exécution manufacturière (MES) à l'échelle FAB pour améliorer la productivité et l'efficacité. En résumé, AMAT Centura AP DPS AdvantEdge G2 est un équipement de graveur et asher de pointe qui offre des performances, une fiabilité et une flexibilité inégalées pour les applications de traitement des semi-conducteurs. Avec ses fonctionnalités et capacités avancées, ce système est idéal pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs de pointe, aidant les fabricants à obtenir des rendements plus élevés, des performances de l'appareil améliorées et un délai de commercialisation plus rapide pour leurs produits semi-conducteurs avancés.
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