Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP DPS AdvantEdge G2 #293831242 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP DPS AdvantEdge G2 est un équipement de graveur et asher à plasma très avancé utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs et d'autres industries nécessitant des capacités précises d'enlèvement des matériaux, de nettoyage de surface et de fixation. Ce système de pointe offre un contrôle de processus exceptionnel, une productivité élevée et une homogénéité supérieure, ce qui en fait un outil indispensable pour réaliser une électronique haute performance et d'autres applications technologiques de pointe. AMAT Centura AP DPS AdvantEdge G2 dispose d'un design polyvalent qui permet à la fois la gravure par plasma sec et les processus d'ashing par plasma, répondant à un large éventail de types de matériaux et d'applications. Sa fonctionnalité bi-mode permet aux utilisateurs de passer d'un mode gravure à un autre, optimisant ainsi la flexibilité et l'efficacité des processus. Cette unité est couramment utilisée pour la gravure de différents matériaux, tels que le silicium, le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium, les métaux et les diélectriques, ainsi que pour l'ashing de photorésist et d'autres films organiques. Au cœur des matériaux appliqués Centura AP DPS AdvantEdge G2 est une machine sophistiquée de production et de contrôle de plasma qui assure un traitement précis et uniforme des substrats. L'outil utilise une combinaison de sources radiofréquences (RF) et hyperfréquences pour créer un plasma qui interagit avec la surface du substrat, permettant l'élimination ou la modification sélective du matériau. Les paramètres plasmatiques, tels que la chimie des gaz, la pression, la puissance et la température, peuvent être précisément contrôlés pour atteindre le profil de gravure ou de cendres souhaité avec une reproductibilité élevée. L'actif est équipé de capacités avancées de détection du point d'extrémité, qui permettent de surveiller en temps réel le processus de gravure ou de cendres et de déterminer avec précision le point d'extrémité du processus. Cette caractéristique est essentielle pour obtenir des résultats cohérents et prévenir la surgravure ou la sous-gravure du substrat. De plus, Centura AP DPS AdvantEdge G2 intègre des mécanismes avancés de contrôle du débit de gaz de procédé, tels que des régulateurs de débit massique et des régulateurs de pression, afin d'assurer un mélange et une distribution optimaux des gaz dans la chambre de procédé. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura AP DPS AdvantEdge G2 est conçu pour un débit et une productivité élevés, avec une configuration à double chambre qui permet le traitement simultané de plusieurs substrats. Cette capacité de traitement parallèle non seulement augmente l'efficacité du modèle, mais réduit également les coûts de fabrication globaux en maximisant le rendement des plaquettes. En outre, l'équipement est équipé de systèmes avancés de manutention des plaquettes et de robotique qui assurent un chargement/déchargement précis des substrats et minimisent les temps de cycle pour augmenter le débit. En termes d'uniformité et de répétabilité des processus, AMAT Centura AP DPS AdvantEdge G2 offre des résultats cohérents sur toute la surface du substrat. Le système intègre des mécanismes avancés de régulation de la température, tels que des dispositifs de chauffage et de refroidissement, pour maintenir un environnement de processus stable et assurer des taux de gravure ou de cendres uniformes sur la plaquette. En outre, l'unité est équipée d'outils de métrologie in situ, tels que la spectroscopie optique d'émission (OES) et l'ellipsométrie, pour la surveillance en temps réel des paramètres du processus et le contrôle de la rétroaction. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura AP DPS AdvantEdge G2 est une machine de graveur et d'asher de pointe qui offre des capacités inégalées pour le traitement des matériaux de précision dans les industries des semi-conducteurs et des technologies de pointe. Ses fonctionnalités avancées, ses capacités de contrôle des processus et sa conception à haut débit en font un outil crucial pour la fabrication de dispositifs de haute performance avec une qualité et une fiabilité exceptionnelles.