Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II Metal #9288582 à vendre en France

ID: 9288582
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Metal etcher, 12" Chamber configuration: Chamber A: DPS II Metal Chamber C and D: ASP Process chamber: Process kits: DPS II Poly parts / Chamber Lid ESC Power supply: 0010-14630 HV Module Control type: TGV VAT 65050-PH52-AFS1 EOP Type: Monochromator Independent Helium control: IHC Module dual 0010-07061 649A-14943 Transfer chamber: Robot type: VHP Dual blade robot General function: Wafer out of position detection: LCF Sensor Loadlock chamber: SWLL Body: LLA/B A(0040-87833), B(0040-87834) EFEM: (3) TDK TAS-300 Load ports Carrier ID reader: OMRON V640-HAM1 1-1 Air Intake system: (FFU) Light curtain YASKAWA 0190-14738 XU-RCM6841 FI Robot YASKAWA XU-ACP4860 Wafer align Wafer out of position detection: Blade finger sensor Side storage: L Remote interface: Components interface: Dry pump (transfer chamber) missing Chiller missing System monitor: Monitor 1: Workstation 0246-00040 Components: Turbo molecular pump: TMP Model / Type: STP A2503PV BOC EDWARDS PT43-56-000 RF Power: Source RF generator: APEX 3013 0920-00113 Frequency / Maximum power supply: 13.56 MHz / 3 kW Bias RF generator: APEX 1513 0920-00114 Frequency / Maximum power supply: 13.56 MHz / 1.5 kW RF Match box: 0190-27576 3155132-001 Source 0190-15167 3155126-009 Bias Utility: Gas panel type: Next gen Gas panel exhaust: Center exhaust (12) Gas lines Gas line tape heater (for liquid gas): BCL3 200 sccm MFC Configuration: MFC Type: Device net MFC (All Chamber): UNIT IFC-125C Gas information: Gas / Gas name / SCCM Gas 1 / CL2 / 200 SCCM Gas 4 / CL2 / 300 SCCM Gas 5 / 7% C2H4/HE / 400 SCCM Gas 6 / SF6 / 400 SCCM Gas 7 / O2 / 1000 SCCM Gas 8 / CF4 / 50 SCCM Gas 9 / AR / 400 SCCM Gas 10 / CHF3 / 50 SCCM Gas 12 / AR / 400 SCCM Axiom chamber: Gas / Gas name / SCCM Gas 7 / O2 / 10000 SCCM Gas 8 / CF4 / 300 SCCM Gas 10 / N2 / 1000 SCCM System controller: FES: IBM 306 0090-23318 FIS: IBM 306 0090-22269 MF SBC: CL7 CCM SBC: 400 MHz MF Controller: Mainframe device net I/O: CDN494 AC Rack: Non remote UPS rack Power supply: 208 V, 50/60 Hz, 3-Phase, 320 A 2006 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS II Metal est un équipement de gravure/cendres haute performance conçu pour graver et enlever des couches métalliques sur des plaquettes semi-conductrices. Il offre un processus rapide et à basse température qui est capable de graver jusqu'à 1,5µm et est idéal pour la fabrication avancée de puces. Le DPS II Metal comprend deux étagères ioniques réactives (RIE) et deux chambres de traitement à plasma inductif (ICPC). Les chambres RIE sont conçues pour effectuer des gravures à l'aide d'ions, tandis que les chambres ICPC sont idéales pour les processus de cendres utilisant des éléments réactifs. Le système utilise une lampe Xenon de forte puissance comme source d'énergie afin d'effectuer la gravure et la cueillette à des températures allant de 20 ° C à 250 ° C. Une unité interférométrique laser est utilisée pour mesurer l'épaisseur des couches et fournir une rétroaction pendant le processus de gravure. La machine offre une précision et une répétabilité élevées de gravure/cendres afin d'obtenir une gravure métallique précise et fiable avec un temps de cycle réduit. Son logiciel de pointe permet aux utilisateurs de créer des séquences de programmes et des recettes pour contrôler les paramètres de processus nécessaires pour répondre aux exigences exactes de chaque étape, permettant une optimisation des processus entre les couches. De plus, le DPS II Metal dispose d'un contrôle électrique à haute vitesse pour garantir des performances de processus efficaces. L'outil est équipé de dispositifs de sécurité tels que des contacts de sécurité, des capteurs de gaz inertes, des voyants lumineux et des alarmes, le tout dans le but de prévenir les accidents. L'actif est facile à utiliser et à entretenir avec des composants accessibles et remplaçables assurant la fiabilité du modèle à long terme. AMAT Centura DPS II Metal est un équipement avancé de gravure/cendres conçu pour fournir une gravure métallique précise pour la fabrication avancée de puces. En utilisant des lampes Xenon de haute puissance et un système d'interférométrie laser, il peut obtenir une précision de gravure répétable et prendre en charge un large éventail de paramètres de processus. Sa facilité de fonctionnement et d'entretien, ainsi que ses nombreuses caractéristiques de sécurité en font le choix idéal pour une large gamme d'étapes de fabrication.
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